[发明专利]一种投影式远端掩模板光刻方法及其设备在审
申请号: | 202010518861.4 | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN111552152A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 吴阳;严振中 | 申请(专利权)人: | 赫智科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 廖娜 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 投影 远端 模板 光刻 方法 及其 设备 | ||
1.一种投影式远端掩模板光刻方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:首先紫外光和指引光分别通过第一准直透镜组和第二准直透镜组进行准直处理;
步骤2:在步骤1中的紫外光和指引光进行准直后,进入二向色镜进行合束,然后再通过聚焦透镜组射入匀光模组的入射端面;
步骤3:通过匀光模组后的光线再次通过第三准直透镜组,将其变成均匀的准直光;
步骤4:步骤3中的准直光通过反射镜反射至第一分光片,并由第一分光片将一部分分光反射至远端掩模板上;
步骤5:步骤4中反射的光将带有远端掩模板上的信息,与第二分光片和照明光进行合束处理;
步骤6:步骤5中将合束的带有信息的光通过第三分光片,光束打至样品上,照射出远端掩模板上的信息,实现信息的转移;
步骤7:最后通过相机对样品进行实时成像观测。
2.根据权利要求1所述的一种投影式远端掩模板光刻方法,其特征在于:所述步骤5的信息是指远端掩模板上的图形和/或文字。
3.根据权利要求1所述的一种投影式远端掩模板光刻方法,其特征在于:所述步骤6中的样品上信息与步骤5中的信息相一致。
4.根据权利要求1所述的一种投影式远端掩模板光刻方法,其特征在于:所述照明光使用的是3000K色温的LED。
5.一种投影式远端掩模板光刻设备,其特征在于:包括第一准直透镜组(1)和第二准直透镜组(2),所述第一准直透镜组(1)和第二准直透镜组(2)分设在二向色镜(3)的前端和后端,所述二向色镜(3)的前端设有聚焦透镜组(4),所述聚焦透镜组(4)的前端设置有匀光模组(5),所述匀光模组(5)的前端设置有第三准直透镜组(6),所述第三准直透镜组(6)的前端设置有反射镜(7),所述反射镜(7)的前端设置有第一分光片(8),所述第一分光片(8)的后端设置有远端掩模板(9),所述第一分光片(8)的前端设置有第二分光片(10),所述第二分光片(10)的前端设置有第三分光片(11),所述第三分光片(11)的输出至样品(12)。
6.根据权利要求5所述的一种投影式远端掩模板光刻设备,其特征在于:所述第一准直透镜组(1)外接有紫外光。
7.根据权利要求5所述的一种投影式远端掩模板光刻设备,其特征在于:所述第二准直透镜组(2)外接有指引光。
8.根据权利要求5所述的一种投影式远端掩模板光刻设备,其特征在于:所述第三分光片(11)外接有相机(13)。
9.根据权利要求5所述的一种投影式远端掩模板光刻设备,其特征在于:所述第二分光片(10)外接有照明光。
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