[发明专利]具有透射切换板的热处理系统及控制其操作的方法

说明书

本公开提供了用于处理工件的系统和方法。在一个示例中，该系统包括处理室。该系统包括配置为支撑处理室内的工件的工件支撑件。该系统包括配置为向工件发射光的热源。该系统包括设置在工件和热源之间的遮挡件。遮挡件包括可配置为半透明状态和不透明状态的电致变色材料。当电致变色材料配置为不透明状态时，遮挡件减少光透射穿过遮挡件，并且当电致变色材料配置为半透明状态时，光至少部分地穿过遮挡件。该系统包括控制器，该控制器配置为控制遮挡件，以在热处理工艺期间减少光透射穿过遮挡件。

优先权要求

本申请要求2019年6月13日提交的序列号为62/861,116、题目为“具有传动切换板的热处理系统(Thermal Processing System with Transmission Switch Plate)”的美国临时申请的优先权益，其通过引用并入本文。

技术领域

本公开总体涉及热处理系统及控制该热处理系统的操作的方法。

背景技术

热处理系统可以限定配置为容纳工件(例如半导体晶圆)的处理室。热处理系统还可以包括配置为加热工件的热源(例如，加热灯)。一些热处理系统可用于对工件实施尖峰退火工艺。

发明内容

本公开的实施例的各个方面和优点将在下面的具体实施方式中进行部分阐述，或者可以从具体实施方式中知悉，或者可以通过实践实施例来知悉。

本公开的一个示例方面涉及热处理系统。该系统包括处理室。该系统包括配置为支撑处理室内的工件的工件支撑件。该系统包括配置为向工件发射光的热源。该系统包括设置在工件和热源之间的遮挡件。遮挡件包括可配置为半透明状态和不透明状态的电致变色材料。当电致变色材料配置为不透明状态时，遮挡件减少光透射穿过遮挡件，并且当电致变色材料配置为半透明状态时，光至少部分地穿过遮挡件。该系统包括控制器，该控制器配置为控制遮挡件，以在热处理工艺期间减少光透射穿过遮挡件。

本公开的其他示例方面涉及用于对半导体基底进行热处理的系统、方法、装置和工艺。

参考以下具体实施方式和所附权利要求，各实施例的这些和其他特征、方面和优点将变得更好理解。被并入并构成本说明书一部分的附图示出了本公开的实施例，并与具体实施方式一起用于解释相关原理。

附图说明

参考附图，在说明书中面向本领域普通技术人员阐述了实施例的详细讨论，其中：

图1描绘了根据本公开的示例实施例的热处理系统；

图2描绘了根据本公开的示例实施例的热处理系统的遮挡件的平面图；

图3描绘了根据本公开的示例实施例的热处理系统的遮挡件的截面图；

图4描绘了根据本公开的示例实施例的热处理系统的示例温度时间曲线；

图5描绘了根据本公开的示例实施例的热处理系统的示例温度时间曲线；

图6描绘了根据本公开的示例实施例的示例方法的流程图；以及

图7描绘了根据本公开的示例实施例的示例方法的流程图。

具体实施方式

现将详细参考实施例，其一个或多个示例示于附图中。提供每个示例用于解释实施例，而不是限制本公开。实际上，对于本领域技术人员将显而易见的是，在不脱离本公开的范围或精神的情况下，可以对实施例进行各种修改和变形。例如，作为一个实施例的一部分所示出或描述的特征可以与另一实施例一起使用，以产生又一实施例。因此，意图使本公开的各方面覆盖这样的修改和变形。

本公开的示例性方面涉及热处理系统和相关联的方法，以更严格地控制热处理工艺(例如尖峰退火工艺)期间的温度曲线。尖峰退火工艺可以是在几秒钟或更短时间内将工件加热到高温的热处理工艺。例如，尖峰退火工艺可用于激活工件(如硅晶圆)中的掺杂剂。