[发明专利]显示面板的制备方法及显示装置在审
| 申请号： | 202010529175.7 | 申请日： | 2020-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN111725438A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 李夫 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 何辉 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 面板 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括非显示区和与所述非显区相邻的显示区，其特征在于，包括如下步骤：
S100：将衬底基板清洗干净，并在高温下对所述衬底基板进行处理；
S101：在所述步骤S100处理后的所述衬底基板上设置至少一无机层，并固化处理；
S103：在无机层上制备第一膜层，并固化；
S104：在所述非显示区对应的所述第一膜层上挖孔，并在所述孔内填充透明膜层，并固化所述透明膜层；
S105：将所述透明膜层平整处理，得到所述显示面板。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S100中，所述衬底基板的处理温度为200℃～1000℃，处理时间为5min～10min。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过旋涂成膜工艺制备所述第一膜层或所述透明膜层，并重复多次，得到所需厚度的所述第一膜层或所述透明膜层。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在500℃下对所述透明膜层进行处理。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述透明膜层的光透过率大于所述第一膜层的光透过率，所述第一膜层包括聚酰亚胺膜层，所述透明膜层包括透明聚酰亚胺膜层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述透明聚酰亚胺膜层在可见光下的光透过率不小于85％，所述透明聚酰亚胺膜层在400nm波长下的光透过率不小于40％。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在200℃～500℃温度下对所述无机层进行固化处理。
8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述无机层的材料包括含硅的无机材料，所述无机层的厚度为1nm～1000nm。
9.一种显示装置，其特征在于，包括显示区和与所述显示区相邻的非显示区，所述显示装置包括：
衬底基板；
无机层，所述无机层设置在所述衬底基板上；
第一膜层，所述第一膜层设置在所述显示区内且设置在所述无机层上；以及
透明膜层，所述透明膜层设置在所述非显示区内且设置在所述无机层上；
其中，所述透明膜层的光透过率大于所述第一膜层的光透过率。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述第一膜层的材料包括聚酰亚胺，所述透明膜层的材料包括透明聚酰亚胺。
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