[发明专利]显示面板的制备方法及显示装置

说明书

本发明提供一种显示面板的制备方法及显示装置，显示装置包括显示区和非显示区，显示区与非显示区相邻、其中，显示区内的膜层包括第一膜层，非显示区包括透明膜层，透明膜层的光透率大于第一膜层的光透率，在制备透明膜层时首先对衬底基板进行预高温处理，然后在一定温度下进行透明膜层的制备，从而得到光透过率较大的透明膜层。改善摄像质量，有效地提高了显示装置的性能。

技术领域

本揭示涉及显示制造技术领域，尤其涉及一种显示面板制备方法及显示装置。

背景技术

目前，显示技术的发展日新月异，各种屏幕技术的出现为电子终端提供的无限可能。

特别是以有机发光二极管(Organic light emitting diod，OLED)为代表的显示技术的快速应用，及各种以“全面屏”、“异形屏”、“屏下发声”、“屏下指纹”等为卖点的移动终端的快速推广使用。现阶段，各大手机及面板商推出的以“全面屏”为卖点的产品，但是大部分还是采用“刘海屏”“水滴屏”的近似全面屏的设计，这是因为前置照相头的存在，必须为其留取一定的区域而做的不得已的选择。因此，现有技术中并不能很好的平衡摄像区域与显示面板之间的矛盾，无法实现在不破坏面板的整体性的同时，又保留设备的前置摄像功能，同时，摄像区域的可见光透过率普遍较低，将摄像头置于面板下方时外界的可见光难以进入到摄像单元成像，影响摄像性能。

综上所述，现有显示面板中，显示屏上的摄像区域的可见光的透过率较低，外界光线不能完全进入到摄像区内，造成摄像头成像困难，成像质量差，影响面板的综合性能。

发明内容

本揭示提供一种显示面板及显示装置。以解决现有技术中，不能很好的平衡显示面板与摄像区域之间的矛盾，在摄像区域内其可见光透过率普遍较低，将摄像头置于面板下方时外界的可见光难以进入到摄像单元成像，摄像质量差的问题。

为解决上述技术问题，本揭示实施例提供的技术方案如下：

根据本揭示实施例的第一方面，提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板包括非显示区和与所述非显区相邻的显示区，包括如下步骤：

S100：将衬底基板清洗干净，并在高温下对所述衬底基板进行处理；

S101：在所述步骤S100处理后的所述衬底基板上设置至少一无机层，并固化处理；

S103：在无机层上制备第一膜层，并固化；

S104：在所述非显示区对应的所述第一膜层上挖孔，并在所述孔内填充透明膜层，并固化所述透明膜层；

S105：将所述透明膜层平整处理，得到所述显示面板。

根据本揭示一实施例，所述步骤S100中，所述衬底基板的处理温度为200℃～1000℃，处理时间为5min～10min。

根据本揭示一实施例，通过旋涂成膜工艺制备所述第一膜层或所述透明膜层，并重复多次，得到所需厚度的所述第一膜层或所述透明膜层。

根据本揭示一实施例，在500℃下对所述透明膜层进行处理。

根据本揭示一实施例，所述透明膜层的光透过率大于所述第一膜层的光透过率，所述第一膜层包括聚酰亚胺膜层，所述透明膜层包括透明聚酰亚胺膜层。

根据本揭示一实施例，所述透明聚酰亚胺膜层在可见光下的光透过率不小于85％，所述透明聚酰亚胺膜层在400nm波长下的光透过率不小于40％。

根据本揭示一实施例，在200℃～500℃温度下对所述无机层进行固化处理。

根据本揭示一实施例，所述无机层的材料包括含硅的无机材料，所述无机层的厚度为1nm～1000nm。