[发明专利]相干层析系统及其参考波前校正方法、装置及设备

权利要求书

1.一种光学相干层析成像系统，包括光源、干涉仪和光电探测器，其特征在于，还包括控温装置，所述干涉仪中的参考臂包括球面反射镜；

其中，所述球面反射镜背面贴合设置胶垫；所述胶垫背离所述球面反射镜的表面均匀设置有多个加热片；各个所述加热片和所述控温装置相连接；

所述控温装置用于根据所述光电探测器采集到的干涉条纹对比度控制各个所述加热片加热，所述球面反射镜受热形变，以使所述光电探测器探测到的干涉条纹对比度达到预定对比度。

2.如权利要求1所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述球面反射镜为K9玻璃镀铝膜反射镜。

3.如权利要求1所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述胶垫为RTV胶垫。

4.如权利要求3所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述胶垫的厚度满足：，其中，t为所述RTV胶垫的厚度，为所述球面反射镜的半径，为所述加热片热膨胀系数， 为所述球面反射镜的热膨胀系数，为受载情况下所述RTV胶垫的热膨胀系数。

5.如权利要求1所述的光学相干层析成像系统，其特征在于，所述加热片为铜片或铝片。

6.一种光学相干层析成像系统的参考波前校正方法，其特征在于，应用于如权利要求1至5任一项所述的光学相干层析成像系统，包括：

根据光电探测器探测到的干涉条纹，获得干涉条纹对比度；

根据所述干涉条纹对比度确定各个加热片的加热功率；

根据所述加热功率对各个所述加热片进行加热，并重复执行所述根据光电探测器探测到的干涉条纹，获得干涉条纹对比度的步骤，直到干涉条纹对比度达到预设对比度。

7.如权利要求6所述的光学相干层析成像系统的参考波前校正方法，其特征在于，根据所述干涉条纹对比度确定各个加热片的加热功率，包括：

预先采集每个所述加热片的不同加热功率对应的所述球面反射镜的干涉条纹对比度数据；

根据各个所述加热片的不同加热功率以及所述加热功率对应的干涉条纹对比度数据，基于神经网络学习，确定各个不同加热功率和干涉条纹对比度之间的对应关系；

根据所述对应关系和当前的所述干涉条纹对比度，确定各个所述加热片的加热功率。

8.如权利要求6所述的光学相干层析成像系统的参考波前校正方法，其特征在于，根据所述干涉条纹对比度确定各个加热片的加热功率，包括：

预先基于平行梯度下降算法，确定加热功率公式为：

，其中，为第n+1次第i个加热片加热的加热功率，为第n次第i个加热片加热的加热功率，为第n次加热后对比度的变化值，为第n次第i个加热片加热的加热功率变化值；

根据所述加热功率确定各个所述加热片的加热功率。

9.一种光学相干层析成像系统的参考波前校正装置，其特征在于，应用于如权利要求1至5任一项所述的光学相干层析成像系统，包括：

对比度采集模块，用于根据光电探测器探测到的干涉条纹，获得干涉条纹对比度；

确定功率模块，用于根据所述干涉条纹对比度确定各个加热片的加热功率；

控制加热模块，用于根据所述加热功率对各个所述加热片进行加热，并重复执行采集光电探测器探测到的干涉条纹对比度的步骤，直到所述光电探测器探测到的干涉条纹对比度达到预设对比度。

10.一种光学相干层析成像系统的参考波前校正设备，其特征在于，应用于如权利要求1至5任一项所述的光学相干层析成像系统，包括：

存储器，用于存储计算机程序；

处理器，用于执行所述计算机程序，以实现如权利要求6至8任一项所述的光学相干层析成像系统的参考波前校正方法的操作步骤。