[发明专利]一种晶体盘高速旋转清洗机

说明书

本发明涉及自动清洗机技术领域，具体涉及一种晶体盘高速旋转清洗机，包括机架、安装于机架的支撑架、安装于支撑架用于放置晶体盘的放置机构、安装于支撑架用于驱动放置机构的驱动机构及用于清洗晶体盘的清洗机构；所述清洗机构包括上部清洗装置及下部清洗装置；本发明采用了高速旋转驱动结构，驱动晶体盘旋转对晶体盘的双面进行清洗，高速旋转过程中通过上部清洗辊与下部清洗辊配合，将对晶体盘的双面进行高速旋转清洗，清洗效果好，高速旋转清洗更加彻底。

技术领域

本发明涉及自动清洗机技术领域，特别是涉及一种晶体盘高速旋转清洗机。

背景技术

自动化技术广泛用于工业、农业、军事、科学研究、交通运输、商业、医疗、服务和家庭等方面。采用自动化技术不仅可以把人从繁重的体力劳动、部分脑力劳动以及恶劣、危险的工作环境中解放出来，而且能扩展人的器官功能，极大地提高劳动生产率，增强人类认识世界和改造世界的能力。自动化系统中的大型成套设备，又称自动化装置。是指机器或装置在无人干预的情况下按规定的程序或指令自动进行操作或控制的过程。

晶体盘作为电子元件的载体，可作用循环使用，在一次时候后需要对其进行清洗；现有技术是通过人工或通过一定时间浸泡后再通过手工清洗脱胶。此方式需要大量的时间和人力，首先浸泡需要很长的浸泡时间方能进行清洗，人工清洗难度更高，因此针对晶体盘清洗提高效率需要做进一步改进设计。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供一种采用了高速旋转驱动结构，驱动晶体盘旋转对晶体盘的双面进行清洗，高速旋转过程中通过上部清洗辊与下部清洗辊配合，将对晶体盘的双面进行高速旋转清洗，清洗效果好，高速旋转清洗更加彻底的晶体盘高速旋转清洗机。

本发明所采用的技术方案是：一种晶体盘高速旋转清洗机，包括机架、安装于机架的支撑架、安装于支撑架用于放置晶体盘的放置机构、安装于支撑架用于驱动放置机构的驱动机构及用于清洗晶体盘的清洗机构；

对上述方案的进一步改进为，所述清洗机构包括上部清洗装置及下部清洗装置；

对上述方案的进一步改进为，所述上部清洗装置包括摆臂、用于驱动摆臂的摆动驱动组件及安装于摆臂的上部清洗辊；

对上述方案的进一步改进为，所述下部清洗装置包括安装于支撑架内的顶升组件、与顶升组件相连的传动座及安装于传动座的下部清洗辊，所述上部清洗辊与下部清洗辊对应。

对上述方案的进一步改进为，所述机架位于支撑架下方设置有用于容纳清洗液的罐体，每组罐体均连接有水泵。

对上述方案的进一步改进为，所述机架位于支撑架一侧设置有超声波清洗机，所述超声波清洗机包括清洗室、设置于清洗室内用于放置晶体盘的放置台及用于驱动放置台升降的升降驱动座。

对上述方案的进一步改进为，所述升降驱动座包括外轴套、设置于外轴套内的内轴套、设置于内轴套内径的升降轴、用于驱动内轴套旋转的旋转电机及用于驱动升降轴的升降气缸，所述内轴套与放置台相连。

对上述方案的进一步改进为，所述放置机构包括若干组环向设置的支撑轴、可旋转安装于支撑轴内的旋转轴、及安装于旋转轴顶端的放置座，所述放置座开设有用于放置晶体盘的放置槽。

对上述方案的进一步改进为，所述支撑轴以下部清洗装置为中心环向均布有六组，每组均设置有旋转轴、放置座及放置槽。

对上述方案的进一步改进为，所述支撑轴内径安装有若干轴承，所述旋转轴可旋转安装于轴承。

对上述方案的进一步改进为，所述驱动机构包括驱动电机、与驱动电机相连的第一同步轮，所述第一同步轮传动连接有同步带，所述同步带同步连接有第二同步轮，所述第二同步轮与所述旋转轴连接。

对上述方案的进一步改进为，所述驱动电机驱动连接有联动结构，所述联动结构与第一同步轮相连，所述同步带设置有导向轮。