[发明专利]控制方法、半导体微波烹饪电器和存储介质

说明书

本发明公开了一种控制方法、半导体微波烹饪电器和存储介质。半导体微波烹饪电器包括腔体和两个微波馈入组件。控制方法包括：根据预设的多个微波参数组依次控制两个微波馈入组件同时发射微波至腔体内，微波参数组包括微波的相位差和频率。获取每次发射微波所对应的两个微波馈入组件的反射功率。根据多次获取的微波馈入组件的反射功率确定腔体的场对称参数。上述控制方法中，通过两个微波馈入组件的反射功率来确定腔体的场对称参数，有利于消除因两个微波馈入组件所产生的微波的相位差，进而可提升对物体的加热均匀性。

技术领域

本发明涉及家用电器技术领域，尤其涉及一种控制方法、半导体微波烹饪电器和存储介质。

背景技术

在相关技术中，微波炉利用半导体微波源产生微波。在具有2路微波馈入的半导体微波炉中，由于2路的器件、电路差异和微波炉腔体轻微的左右不对称等原因导致两路链路间存在固有的相差；要在微波加热中对两路信号进行有效相位控制，要对该相差值进行标定或消除。

发明内容

本发明实施方式提供一种控制方法、半导体微波烹饪电器和存储介质。

本发明实施方式提供的一种控制方法，用于半导体微波烹饪电器，所述半导体微波烹饪电器包括腔体和两个微波馈入组件，所述控制方法包括：

根据预设的多个微波参数组依次控制所述两个微波馈入组件同时发射微波至所述腔体内，所述微波参数组包括微波的相位差和频率；

获取每次发射微波所对应的所述两个微波馈入组件的反射功率；

根据多次获取的所述微波馈入组件的反射功率确定所述腔体的场对称参数。

上述控制方法中，通过两个微波馈入组件的反射功率来确定腔体的场对称参数，有利于消除因两个微波馈入组件所产生的微波的相位差，进而可提升对物体的加热均匀性。

在某些实施方式中，每个所述微波参数组包括一个微波相位差和与所述微波相位差对应的频率范围，所述多个微波参数组的所述微波相位差不同，所述频率范围相同，或

每个所述微波参数组包括一个频率和与所述频率对应的相位差范围，所述多个微波参数组的所述频率不同，所述相位差范围相同。

在某些实施方式中，获取每次发射微波所对应的所述两个微波馈入组件的反射功率，包括：

在每次发射微波的情况下，检测所述腔体的反射微波；

根据所述腔体的反射微波确定所述两个微波馈入组件的反射功率。

在某些实施方式中，根据多次获取的所述微波馈入组件的反射功率确定所述腔体的场对称参数，包括：

对每次获取到的所述两个微波组件馈入的反射功率作相减处理以获得一个差值；

根据多次获取的所述微波馈入组件的反射功率的所述差值确定所述腔体的场对称参数。

在某些实施方式中，根据多次获取的所述微波馈入组件的反射功率的所述差值确定所述腔体的场对称参数，包括：

对多次获取的所述微波馈入组件的反射功率的所述差值作均方根运算以得到多个均方根值；

根据所述多个均方根值确定所述腔体的场对称参数。

在某些实施方式中，根据所述多个均方根值确定所述腔体的场对称参数，包括：在处理所述多个均方根值获得到一个最小均方根值的情况下，根据所述最小均方根值确定所述腔体的场对称参数。

在某些实施方式中，根据所述多个均方根值确定所述腔体的场对称参数，包括：在处理所述多个均方根值获得到多个最小均方根值的情况下，根据所述多个最小均方根值和负载实验确定所述腔体的场对称参数。