[发明专利]曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置

说明书

本发明提供了一种曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。本发明采用第一掩膜板对衬底基板上的第一曝光区域和第二曝光区域处的感光材料进行曝光，将第一掩膜板更换为第二掩膜板，控制第二掩膜板相对于衬底基板朝向目标方向移动，采用第二掩膜板对衬底基板上的第二曝光区域和第三曝光区域处的感应材料进行曝光。采用第一掩膜板和第二掩膜板可实现对衬底基板上的感光材料进行拼接曝光，因此，通过调节第一掩膜板和第二掩膜板的相关尺寸，则可采用第一掩膜板和第二掩膜板制作不同尺寸的显示基板，因此，在曝光时不同产品之间的掩膜板可以复用，从而降低了制作成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置。

背景技术

在显示装置的制作过程中通常会用到曝光工艺，在对衬底基板上的感光材料进行曝光时，需要用到掩膜板。

目前，不同规格的产品在曝光时所需的掩膜板不同，因此，在制作不同规格的产品时，需要提供不同的掩膜板，不同产品之间的掩膜板不可复用，导致制作成本较高。

发明内容

本发明提供一种曝光方法、掩膜板组件、显示基板及制作方法、显示装置，以解决现有的在制作不同规格的产品时，需要提供不同的掩膜板，导致产品的制作成本较高的问题。

为了解决上述问题，本发明公开了一种曝光方法，包括：

采用第一掩膜板对衬底基板上的第一曝光区域和第二曝光区域处的感光材料进行曝光；所述第一掩膜板包括依次设置的第一掩膜区域、第一半透光区域和第一遮光区域，在曝光时所述第一掩膜区域在所述衬底基板上的正投影与所述第一曝光区域重合，且在曝光时所述第一半透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二曝光区域重合；

将所述第一掩膜板更换为第二掩膜板；所述第二掩膜板包括依次设置的第二遮光区域、第二半透光区域和第二掩膜区域；

控制所述第二掩膜板相对于所述衬底基板朝向目标方向移动，使得所述第二半透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二曝光区域重合；

采用所述第二掩膜板对所述衬底基板上的所述第二曝光区域和第三曝光区域处的感应材料进行曝光；在曝光时所述第二掩膜区域在所述衬底基板上的正投影与所述第三曝光区域重合，且所述第三曝光区域与所述第一曝光区域不重合。

可选的，所述目标方向为所述衬底基板的行方向或列方向。

可选的，在所述目标方向上，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板的尺寸大于或小于所述衬底基板的尺寸；在所述目标方向的垂直方向上，所述第一掩膜板和所述第二掩膜板的尺寸等于所述衬底基板的尺寸。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种掩膜板组件，包括第一掩膜板和第二掩膜板；

所述第一掩膜板包括依次设置的第一掩膜区域、第一半透光区域和第一遮光区域；

所述第二掩膜板包括依次设置的第二遮光区域、第二半透光区域和第二掩膜区域；

所述第一掩膜板，被配置为对衬底基板上的第一曝光区域和第二曝光区域处的感光材料进行曝光；在曝光时所述第一掩膜区域在所述衬底基板上的正投影与所述第一曝光区域重合，且在曝光时所述第一半透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二曝光区域重合；

所述第二掩膜板，被配置为在相对于所述衬底基板朝向目标方向移动之后，对所述衬底基板上的所述第二曝光区域和第三曝光区域处的感应材料进行曝光；在曝光时所述第二半透光区域在所述衬底基板上的正投影与所述第二曝光区域重合，且在曝光时所述第二掩膜区域在所述衬底基板上的正投影与所述第三曝光区域重合，所述第三曝光区域与所述第一曝光区域不重合。