[发明专利]一种氧化锌基发光二极管及制造方法在审

专利信息
申请号: 202010542599.7 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111755579A 公开(公告)日: 2020-10-09
发明(设计)人: 王霄;敖金平;冶琼;翟小崎;王婷婷;彭韬玮 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/28;H01L33/02;H01L33/00
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 李婷;祁凡雨
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 氧化锌 发光二极管 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种氧化锌基发光二极管,其特征在于,从上至下依次包括P型硅衬底、圆柱形金属纳米颗粒阵列层、电子阻挡层和ZnO层;

其中,圆柱形金属纳米颗粒阵列层的金属纳米颗粒为圆柱形,通过控制圆柱形金属纳米颗粒的尺寸和间距,使得金属局域表面等离子体能量与ZnO激元能量相匹配,所述圆柱形金属纳米颗粒的尺寸直径范围为5~1000nm,间距为10~5000nm。

2.如权利要求1所述氧化锌基发光二极管,其特征在于,所述金属纳米颗粒包括Ag、Au、Al、Cu、Ni、Ti、Pt中的任意一种金属。

3.一种氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,对于权利要求1所述的圆柱形金属纳米颗粒阵列层通过阳极氧化铝薄膜制备,制备出的金属纳米颗粒为圆柱形,可精确控制圆柱形金属纳米颗粒的尺寸和间距。

4.如权利要求3所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,具体包括:

S1:将阳极氧化铝薄膜转移到P型硅衬底;

S2:在阳极氧化铝薄膜上沉积金属层;

S3:移除阳极氧化铝薄膜,保留圆柱形金属纳米颗粒;

S4:在金属纳米颗粒上依次沉积电子阻挡层和ZnO层。

5.如权利要求3或4所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,所述圆柱形金属纳米颗粒的尺寸直径范围为5~1000nm,间距为10~5000nm。

6.如权利要求3或4所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,所述电子阻挡层包括三氧化二铝或二氧化铪中的一种。

7.如权利要求3或4所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,所述圆柱形金属纳米颗粒阵列层的制备采用水热法、磁控溅射、溶胶-凝胶法和原子层沉积中任意一种。

8.如权利要求3或4所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,所述圆柱形金属纳米颗粒阵列层、电子阻挡层和ZnO层的厚度范围均为1~500nm。

9.如权利要求3或4所述氧化锌基发光二极管的制备方法,其特征在于,所述电子阻挡层和ZnO层的制备均采用磁控溅射、电子束蒸发、溶胶-凝胶法和原子层沉积中任意一种。

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