[发明专利]一种更换动态气体锁的装置

说明书

本发明公开了一种更换动态气体锁的装置，包括：储存盘，移动设于测量支架与工件台之间，所述储存盘上设有第一安装单元，所述第一安装单元用于吸附动态气体锁以存放，或者脱吸附以释放；所述测量支架上设有第二安装单元，所述第二安装单元用于吸附所述储存盘上被释放的所述动态气体锁以安装，或者脱吸附以拆卸；移动机构，用于根据指令将所述储存盘及其存放的所述动态气体锁移动并定位至所述第二安装单元下方；控制单元，用于指令所述移动机构移动，以及控制所述第一安装单元和所述第二安装单元对所述动态气体锁的吸附或脱吸附。本发明具有能在高真空腔内更换动态气体锁的优点，并能够节省更换时间，提高设备利用率。

技术领域

本发明涉及集成电路制造及光刻技术领域，特别是涉及一种可在高真空腔内更换动态气体锁的装置。

背景技术

在例如极紫外光曝光过程中，物镜系统及照明系统一直处于高真空环境中，目的是为了防止各种污染，包括材料在真空环境表面脱吸附以及放气所带来的污染。

为了抑制污染物对高真空环境的影响，特别是硅片表面的光刻胶在紫外光下产生光化学反应时，产生的对光学元件有污染的气体对高真空环境的影响，其中的一种解决方法是采用被称作动态气体锁的装置：一层能够透射极紫外光，并阻挡其他波段辐射和放气的薄膜。

如图1所示，其显示一种极紫外光刻机系统内部结构。动态气体锁设置在工件台上方的测量支架上，光线通过动态气体锁的薄膜照射到工件台1上的硅片上进行曝光。

在动态气体锁薄膜的上下方还有氢气流通，以进一步阻挡硅片表面光刻胶的放气，如图2所示。

近几年，动态气体锁在极紫外技术中投入量产使用，并得到验证。

然而，由于动态气体锁是薄膜，极容易被污染甚至受损，因而要求定期更换。但是，更换此动态气体锁不仅费时(需要真空腔从超高真空放气到大气压)，而且更换十分不便，造成效率降低，从而增加了成本。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的上述缺陷，提供一种更换动态气体锁的装置。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种更换动态气体锁的装置，包括：

储存盘，移动设于测量支架与工件台之间，所述储存盘上设有第一安装单元，所述第一安装单元用于吸附动态气体锁以存放，或者脱吸附以释放；所述测量支架上设有第二安装单元，所述第二安装单元用于吸附所述储存盘上被释放的所述动态气体锁以安装，或者脱吸附以拆卸；

移动机构，用于根据指令将所述储存盘及其存放的所述动态气体锁移动并定位至所述第二安装单元下方；

控制单元，用于指令所述移动机构移动，以及控制所述第一安装单元和所述第二安装单元对所述动态气体锁的吸附或脱吸附。

进一步地，所述储存盘上设有多个所述第一安装单元，每个所述第一安装单元用于存放一个所述动态气体锁，所述移动机构用于将其中的任意一个所述第一安装单元定位至所述第二安装单元下方。

进一步地，所述储存盘为转盘，各所述第一安装单元沿所述转盘的转动半径设于所述储存盘的表面上。

进一步地，所述第一安装单元和所述第二安装单元分设有电磁铁，所述电磁铁连接所述控制单元，所述动态气体锁的对应位置上设有永磁铁。

进一步地，所述移动机构设有转动部，所述转动部连接所述转盘。

进一步地，所述转盘设有转轴，所述转动部通过卡钳连接所述转轴。

进一步地，所述卡钳包括一副滑动设于导轨上的楔形卡爪和平面卡爪，所述楔形卡爪和平面卡爪用于夹持所述转轴，所述导轨设于一转动平台上，所述转动平台连接所述转动部。