[发明专利]一种阻隔光阻放气污染的装置

权利要求书

1.一种阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，包括：

一气体挡板，设于真空腔室内，并位于动态气体锁和晶圆之间，所述气体挡板上设有透光缝隙，所述透光缝隙的大小至少保证穿过所述动态气体锁的光线全部得到通过，并投射到涂覆光阻的所述晶圆的扫描区域上形成像场；

其中，利用所述扫描区域在所述透光缝隙下方的不断变换，及所述光阻因曝光产生酸性气体相对于所述扫描区域变换的延时效应，使前一所述扫描区域在其上所述光阻产生酸性气体时，已位于所述透光缝隙以外的所述气体挡板下方，从而对其产生的酸性气体进行阻隔和吸附。

2.根据权利要求1所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述气体挡板以水平转动方式设于所述真空腔室内，所述透光缝隙通过所述气体挡板的转动，位于所述动态气体锁的下方，并位于所述晶圆的扫描路径上。

3.根据权利要求2所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述气体挡板水平设置，并通过一转轴转动连接所述真空腔室的内壁，所述转轴偏置于所述动态气体锁的一侧。

4.根据权利要求2所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述透光缝隙为多个，各所述透光缝隙之间间隔设置，并以所述气体挡板的转动中心为圆心形成环形分布。

5.根据权利要求2所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述透光缝隙为以所述气体挡板的转动中心为圆心的环形缝隙。

6.根据权利要求4所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，每个所述透光缝隙的形状与所述像场的形状对应。

7.根据权利要求4所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述透光缝隙的数量为4～8个。

8.根据权利要求3所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，所述气体挡板与所述转轴之间采用磁悬浮方式相配合。

9.根据权利要求4所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，通过旋转所述气体挡板，使各所述透光缝隙位于所述动态气体锁的下方。

10.根据权利要求5所述的阻隔光阻放气污染的装置，其特征在于，通过旋转所述气体挡板，使所述环形缝隙的不同弧段分别位于所述动态气体锁的下方，所述弧段与所述像场的形状对应。