[发明专利]一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体及其合成方法

权利要求书

1.一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述光刻胶树脂单体的结构式为：其中R₁为甲基或者H，R₂、R₃分别独立的为氢、烷基、环烷基，R₄为烷基或者环烷基，且R₂和R₄、R₃和R₄或者R₂和R₃可以通过共价键连接形成环状结构，n为1-10的整数。

2.根据权利要求1所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述树脂单体的具体结构包括：

3.一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述树脂单体的合成路线如下：

其中X为卤素，具体步骤：

a.初始原料A中的双键被氧化剂氧化后形成三元环氧基团的中间体B；

b.中间体B酸性条件下三元环氧基团水解生成邻二羟基结构的中间体C；

c.中间体C在碱性条件下，与一当量的(甲基)丙烯酰氯酯化生成(甲基)丙烯酸酯结构的中间体D；

d.中间体D在碱性条件下与卤代物F反应生成树脂单体E。

4.根据权利要求3所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，合成步骤a的氧化剂为间氯过氧苯甲酸或者过氧化氢。

5.根据权利要求3所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，合成步骤b的酸为硫酸。

6.根据权利要求3所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，合成步骤c和步骤d中碱性条件，所述碱均选择有机碱，包括三乙胺、二异丙基胺、吡啶。

7.根据权利要求3所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述卤代物F的合成方法：

其中X为卤素，R₄OH与R₂COR₃在卤化氢、硫酸钠作用下生成卤代物F，溶剂选择甲苯。

8.根据权利要求3所述的一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述初始原料A包括：