[发明专利]红外线遮蔽膜及其制造方法

权利要求书

1.一种红外线遮蔽膜，其特征在于，所述红外线遮蔽膜包括：

一红外线吸收层，含有均匀分布的多个复合氧化钨粒子，其中多个所述复合氧化钨粒子占所述红外线吸收层总重量的0.1wt％至10wt％，且具有以下通式：Cs_xM_yWO_3-zN_c；Cs表示铯；M表示锡、锑或铋；W表示钨；O表示氧；N表示氟或溴；x、y、z、c均为正数，且符合以下条件：x≦1.0；y≦1.0；y/x≦1.0；z≦0.6；及c≦0.1；以及

一第一红外线反射层，设置于所述红外线吸收层的一表面上，且含有均匀分布的多个氧化钛粒子，其中多个所述氧化钛粒子占所述第一红外线反射层总重量的0.1wt％至10wt％；以及

一第二红外线反射层，其设置于所述红外线吸收层的相对另一表面上，且含有均匀分布的多个氧化钛粒子，其中多个所述氧化钛粒子占所述第二红外线反射层总重量的0.1wt％至10wt％；

其中，所述红外线遮蔽膜的厚度为12微米至50微米，且所述第一红外线反射层与所述第二红外线反射层的厚度和为所述红外线遮蔽膜厚度的6％至40％。

2.根据权利要求1所述的红外线遮蔽膜，其特征在于，所述红外线吸收层中每一所述复合氧化钨粒子的粒径为1纳米至50纳米，所述第一红外线反射层中每一所述氧化钛粒子的粒径为30纳米至80纳米，且所述第二红外线反射层中每一所述氧化钛粒子的粒径为30纳米至80纳米。

3.根据权利要求1所述的红外线遮蔽膜，其特征在于，所述红外线遮蔽膜依JIS R3106测试标准所测得的红外线阻隔率为30％至99％，且所述红外线遮蔽膜依JIS K7705测试标准所测得的雾度为0.05％至2％。

4.一种红外线遮蔽膜的制造方法，其特征在于，所述红外线遮蔽膜的制造方法包括：

提供包含多个复合氧化钨粒子的一第一隔热浆料以及包含多个氧化钛粒子的至少一第二隔热浆料，其中多个所述复合氧化钨粒子具有以下通式：Cs_xM_yWO_3-zN_c；Cs表示铯；M表示锡、锑或铋；W表示钨；O表示氧；N表示氟或溴；x、y、z、c均为正数，且符合以下条件：x≦1.0；y≦1.0；y/x≦1.0；z≦0.6；及c≦0.1；以及

通过多层共押出的方式将多个聚酯粒形成一多层结构，其中在押出过程中所述第一隔热浆料与至少一所述第二隔热浆料分别被施加于相互层叠的一第一热熔融层和至少一第二热熔融层，使所述多层结构至少包括一红外线吸收层、一形成于所述红外线吸收层的一表面上的第一红外线反射层以及一形成于所述红外线吸收层的相对另一表面上的第二红外线反射层；

其中，多个所述复合氧化钨粒子占所述红外线吸收层总重量的0.1wt％至10wt％，多个所述氧化钛粒子占所述第一红外线反射层总重量的0.1wt％至10wt％，且多个所述氧化钛粒子占所述第二红外线反射层总重量的0.1wt％至10wt％；

其中，所述红外线遮蔽膜的厚度为12微米至50微米，且所述第一红外线反射层与所述第二红外线反射层的厚度和为所述红外线遮蔽膜厚度的6％至40％。

5.根据权利要求4所述的红外线遮蔽膜的制造方法，其特征在于，多个所述复合氧化钨粒子在所述第一隔热浆料中的存在量为0.01wt％至30wt％，且每一所述复合氧化钨粒子的粒径为1纳米至50纳米，多个所述氧化钛粒子在至少一所述第二隔热浆料中的存在量为0.01wt％至30wt％，且每一所述氧化钛粒子的粒径为30纳米至80纳米。