[发明专利]用于制造散射射线准直仪的方法和散射射线准直仪

权利要求书

1.一种用于制造散射辐射准直仪(2)的方法，所述散射辐射准直仪(2)从下侧(4)开始沿构造方向(6)延伸到上侧(8)，所述散射辐射准直仪(2)具有吸收X射线的多个壁部(10)，并且在所述散射辐射准直仪(2)中在所述多个壁部(10)之间形成用于非散射X射线的多个贯通通道(12)，

其中使用光刻工艺，借助于所述光刻工艺由混合有X射线吸收材料的光刻胶形成所述散射辐射准直仪(2)的所述多个壁部(10)。

2.根据权利要求1所述的方法，

其中在所述光刻工艺的过程中将由所述光刻胶制成的一个涂层(14)曝光，并且其中在所述曝光之后以溶剂、特别是γ-丁氧基丙酮冲洗或冲刷所述涂层以形成多个贯通通道(12)。

3.根据权利要求2所述的方法，

其中由所述光刻胶制成的一个涂层(14)的厚度(d)的值在200μm至800μm的范围内，并且特别是在400μm至600μm的范围内。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，

其中所述光刻胶具有作为基础树脂的环氧树脂。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，

其中将金属、特别是钨作为X射线吸收材料混合到所述光刻胶中。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，

其中将呈球珠形式的X射线吸收材料混合到所述光刻胶中。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，

其中在所述光刻胶中混合X射线吸收材料，使得所述X射线吸收材料的体积分数占至少30％，并且特别是占至少40％。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，

其中使用一个衬底(20)，特别是一个硅晶片。

9.根据权利要求8所述的方法，

其中通过多次重复所述光刻工艺在所述衬底(20)上沿构造方向(6)逐层地构造所述散射辐射准直仪(2)或所述散射辐射准直仪(2)的一个模块。

10.根据权利要求9所述的方法，

其中在两次光刻工艺之间进行涂覆工艺以形成一个稳定化中间涂层(26)。

11.根据权利要求10所述的方法，

其中通过所述涂覆工艺、特别是通过溅射形成一个金属涂层作为稳定化中间涂层(26)。

12.根据权利要求10或11所述的方法，

其中所述稳定化中间涂层(26)的厚度的值在10μm至50μm之间。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的方法，

其中在两次光刻工艺之间以填充材料(18)填充并且特别是填满在由所述光刻胶形成的结构之间存在的间隙。

14.一种散射辐射准直仪(2)，特别是用于X射线设备(28)，所述散射辐射准直仪(2)从下侧(4)开始沿构造方向(6)延伸到上侧(8)，所述散射辐射准直仪(2)具有吸收X射线的多个壁部(10)，并且在所述散射辐射准直仪(2)中在所述多个壁部(10)之间形成用于非散射X射线的多个贯通通道(12)，并且所述散射辐射准直仪(2)借助于根据前述权利要求中任一项所述的方法来制造。

15.根据权利要求14所述的散射辐射准直仪(2)，

其中所述散射辐射准直仪(2)在构造方向(6)上的延伸的值在5mm至30mm之间。