[发明专利]用于制造散射射线准直仪的方法和散射射线准直仪

说明书

本发明涉及一种用于制造散射辐射准直仪(2)的方法，该散射辐射准直仪(2)从下侧(4)开始沿构造方向(6)延伸到上侧(8)，散射辐射准直仪(2)具有吸收X射线的壁部(10)，并且在散射辐射准直仪(2)中在壁部(10)之间形成用于非散射X射线的贯通通道(12)，其中使用光刻工艺，借助于该光刻工艺由混合有X射线吸收材料的光刻胶形成散射辐射准直仪(2)的壁部(10)。

技术领域

本发明涉及一种用于制造散射射线准直仪的方法，该散射射线准直仪从下侧开始沿构造方向延伸到上侧，该散射射线准直仪具有吸收X射线的多个壁部，并且在该散射射线准直仪中在壁部之间形成用于非散射X射线的通道。此外，本发明还涉及一种相应的散射射线准直仪以及一种具有相应散射射线准直仪的X射线设备。

背景技术

为成像方法设计的X射线设备通常具有所谓的散射辐射准直仪，也称为散射辐射光栅，以便吸收不希望的散射X射线，使得不希望的散射X射线不会入射到X射线设备的X射线探测器上。

在此，相应的散射辐射准直仪具有吸收X射线辐射的多个壁部，在壁部之间形成用于非散射X射线辐射的贯通通道。这种类型的散射辐射准直仪通常通过以下方式制造，即将具有适当凹口或开口的金属板彼此堆叠，然后将金属板彼此连接。

发明内容

由此出发，本发明所基于的目的在于，提出一种用于制造散射辐射准直仪的有利的方法、一种有利地构造的散射辐射准直仪和一种有利地构造的X射线设备。

该目的通过根据本发明的方法、散射辐射准直仪和X射线设备实现。本文中包含本发明的部分有利的和本身部分具有创新性的改进方案。关于所述方法所提及的优点和优选设计方案也可变通地应用于散射辐射准直仪和/或X射线设备，反之亦然。

在此，根据本发明的方法用于制造散射辐射准直仪或散射辐射光栅，该散射辐射准直仪或散射辐射光栅在构造方向上从下侧延伸到上侧。在此，散射辐射准直仪具有吸收X射线辐射的多个壁部，并且在这些壁部之间形成用于非散射X射线辐射的贯通通道。根据实施变型方案，贯通通道是拉长延伸的并且例如彼此平行地定向，或者贯通通道的中心纵轴线例如全部延伸至一个点，特别是延伸至散射辐射准直仪外部的一个点。

与此无关地，通过使用光刻工艺并且特别是通过重复地使用该光刻工艺来制造散射辐射准直仪。在此，在光刻工艺过程中通常使用曝光掩模，并且借助于光刻工艺形成散射辐射准直仪的壁部，特别是由混合有X射线吸收材料的光刻胶形成。

以此方式，即使非常精细的结构也能够以非常高的精度实现。在此，例如实现了具有微小壁厚(例如壁厚在约10μm至约100μm的范围内)的吸收X射线辐射的壁部和/或壁厚几乎不会随构造方向上的延伸而变化的吸收X射线辐射的壁部。替代地或附加地，实现了彼此以微小间距布置的吸收X射线的壁部，例如以约300μm至约600μm范围内的间距布置。

此外，通常在光刻工艺中通常利用紫外线辐射使光刻胶涂层曝光。在曝光后对该涂层进行显影，并且在此例如尤其是为了形成贯通通道而用溶剂进行冲洗或冲刷。这意味着用溶剂又去除光刻胶涂层的一部分，并且通过该去除至少形成贯通通道的部分区段。在此，例如γ-丁氧基丙酮被视为合适的溶剂。

在此，根据应用情况，相应光刻胶层的厚度的值在约200μm至约800μm的范围内。在此，厚度优选在约400μm至约600μm的范围内，例如约为500μm。

根据该方法的一种实施变型方案，光刻胶具有环氧树脂作为基础树脂。在这种情况下，优选使用路易斯酸作为光敏组分，即例如三芳基六氟锑酸盐。特别是Microchem公司的称为SU-8的光刻胶被认为是有效的。

不管所使用的光刻胶及其确切成分如何，都在光刻胶中混合有X射线吸收材料。作为该材料合宜地使用金属，其中优选为钨。