[发明专利]一种曝光机的曝光方法及显示基板

权利要求书

1.一种曝光机的曝光方法，其特征在于，应用于无掩膜板曝光模式的数字光刻工艺，通过数字曝光机将虚拟掩模板上的图形转移到玻璃基板上，所述曝光机的曝光方法包括：

将玻璃基板分成至少一个曝光区域；所述数字曝光机包括并排排列的多个曝光灯，每个曝光灯发射的曝光光线在所述玻璃基板上的扫描区域形成所述曝光区域，所述曝光区域分别与每个曝光灯对应，每个曝光灯独立处理图纸和曝光；

将待曝光显示基板放置在所述玻璃基板上，所述待曝光显示基板划分为显示区和包围所述显示区的非显示区，所述显示区包括阵列排布的多个子像素，所述非显示区包括集成电路接口以及将所述子像素与所述集成电路接口连接的引线；

将所述待曝光显示基板上相同的子像素放置在同一个曝光区域中，将所述待曝光显示基板上相同的集成电路接口放置在同一个曝光区域中，将所述待曝光显示基板上相同的引线放置在同一个曝光区域中；所述待曝光显示基板包括第一子显示基板和第二子显示基板，所述第一子显示基板的子像素和所述第二子显示基板的子像素相同，所述第一子显示基板与所述第二子显示基板相同布局、相同形状和相同尺寸的子像素放置在同一个曝光区域中，所述第一子显示基板的子像素密度和所述第二子显示基板的子像素密度不同，或者，所述第一子显示基板和所述第二子显示基板的尺寸不同；所述第一子显示基板和所述第二子显示基板上布局相同、形状相同和尺寸相同的集成电路接口放置在同一个曝光区域，所述第一子显示基板和所述第二子显示基板上布局相同、形状相同和尺寸相同的引线放置在同一个曝光区域中。

2.根据权利要求1所述的曝光机的曝光方法，其特征在于，同一个所述曝光区域中，相邻所述待曝光显示基板的子像素沿着所述曝光机的扫描方向对齐。

3.根据权利要求1所述的曝光机的曝光方法，其特征在于，同一个所述曝光区域中，相邻所述待曝光显示基板的集成电路接口沿着所述曝光机的扫描方向对齐。

4.根据权利要求1所述的曝光机的曝光方法，其特征在于，同一个所述曝光区域中，相邻所述待曝光显示基板的引线沿着所述曝光机的扫描方向对齐。

5.一种显示基板，其特征在于，由上述权利要求1-4任一所述曝光机的曝光方法制备而成。