[发明专利]用于刻蚀的视窗观察装置和刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 202010563080.7 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN111640698B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 王张柯;童光辉;杜廷卫 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 刻蚀 视窗 观察 装置 设备
【权利要求书】:

1.一种用于刻蚀的视窗观察装置,其特征在于,所述用于刻蚀的视窗观察装置包括观察探头,所述观察探头包括:

外壁,所述外壁包括探测端;

在所述外壁中开设有接线槽,所述接线槽的一端延伸至所述外壁的探测端,另一端向远离所述探测端的方向延伸;

所述接线槽中设有内部连线,所述内部连线的一端连接管道摄像头,另一端连接蓝牙摄像主机;所述管道摄像头位于所述外壁的探测端,所述蓝牙摄像主机设于所述观察探头外;

所述用于刻蚀的视窗观察装置设于视窗的上方;所述观察探头还包括由所述外壁包围形成的光谱收发腔,所述光谱收发腔用于发送激光至所述视窗,或采集反射进入所述视窗的散射光。

2.如权利要求1所述的用于刻蚀的视窗观察装置,其特征在于,所述管道摄像头对准所述视窗,用于获取所述视窗表面的聚合物图像。

3.如权利要求2所述的用于刻蚀的视窗观察装置,其特征在于,所述蓝牙摄像主机用于接收所述管道摄像头传送的所述聚合物图像。

4.一种刻蚀设备,其特征在于,所述刻蚀设备包括:

反应腔,所述反应腔中设有载片台,所述载片台包括用于承载晶片的承载面;

刻蚀喷嘴,所述刻蚀喷嘴设置在面向所述承载面的所述反应腔侧壁上,所述刻蚀喷嘴中形成光通路,所述光通路的一端连通所述反应腔,另一端密封有视窗;

在所述视窗上设有如权利要求1~3中任一项权利要求所述的用于刻蚀的视窗观察装置。

5.如权利要求4所述的刻蚀设备,其特征在于,所述观察探头还包括由所述外壁包围形成的光谱收发腔,所述光谱收发腔用于发送激光至所述视窗,或采集反射进入所述视窗的散射光;

所述光谱收发腔发送到所述视窗的激光,从所述视窗所在位置进入所述光通路,照射到位于所述承载面上的晶片,经所述晶片上介质层反射形成散射光,所述散射光通过所述光通路,从所述视窗出射进入所述光谱收发腔。

6.如权利要求4所述的刻蚀设备,其特征在于,在所述反应腔的外壁上设有至少一个能够产生磁场的磁感应线圈。

7.如权利要求4所述的刻蚀设备,其特征在于,所述用于刻蚀的视窗观察装置的管道摄像头能够采集到沉积在所述光通路中的聚合物的图像。

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