[发明专利]掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法

权利要求书

1.掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，其特征在于，包括以下步骤:

S1建立掩膜版模型，选择影响掩膜版旋涂工艺的旋转参数和考核掩膜版涂胶质量的目标参数；

其中，所述旋转参数包括涂胶转盘的旋转速度rpm、涂胶转盘的旋转时间t和涂胶转盘的旋转加速度a；

所述目标参数为膜厚平均值T、膜厚均匀性U和色差M；

S2赋予每个旋转参数多个参数值，将参数值和目标参数建立正交表；

S3将正交表内的每组参数值赋予到涂布转盘上，并进行掩膜版的旋转涂胶，最后计算出正交表内每组参数值对应的目标参数值；

S4从正交表中选出最优的一组旋转参数；

所述步骤S3具体为：

色差M的计算方法为：在色差图形区建立坐标系，并通过积分计算出所有色差图形的面积，计算公式如下：

式(1)中：

表示通过积分求出其中某个色差图形面积大小；

Sm：色差图形的总面积；

通过Sm计算出色差M，计算公式如下：

式(2)中：

Sm：色差图形的总面积；

S0：掩膜版基板面积；

M：色差；

膜厚平均值T的计算方法：采用膜厚测量仪对采用参数值调整后的涂布转盘在掩膜版上涂胶后的膜厚进行测量，在膜上选取N个测量点，计算得出膜厚平均值，计算公式如下：

T＝(P₁+P₂…+P_N)/N             (3)

式(3)中：

P₁,P₂...,P_N为每个点的膜厚值；

膜厚均匀性U的计算：计算公式如下：

式(4)中：

Pmax,为膜厚最大值；

Pmin为膜厚最小值。

2.如权利要求1所述的掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述每个旋转参数的参数值为四个。

3.如权利要求1所述的掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，其特征在于，所述测量点的数量为21×21，分别在X轴和Y轴选取21个点。

4.如权利要求1所述的掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，其特征在于，所述测量点呈S形布置。