[发明专利]掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法

说明书

本发明公开了一种掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，包括以下步骤:S1建立掩膜版模型，选择影响掩膜版旋涂工艺的旋转参数和考核掩膜版涂胶质量的目标参数；其中，所述旋转参数包括涂胶转盘的旋转速度rpm、涂胶转盘的旋转时间t和涂胶转盘的旋转加速度a；所述目标参数为膜厚平均值、膜厚均匀性和色差；S2赋予每个旋转参数多个参数值，将参数值和目标参数建立正交表；S3将正交表内的每组参数值赋予到涂布转盘上，并进行掩膜版的旋转涂胶，最后计算出正交表内每组参数值对应的目标参数值；S4从正交表中选出最优的一组旋转参数；相比于传统需要做大量试验的筛选方法而言，通过本发明的方法能得到最优的旋转参数，方法更加高效、可靠，同时也大大降低了试验成本。

技术领域

本发明涉及掩膜版制造技术领域，尤其是一种用于高世代掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法。

背景技术

掩膜版又称光罩、光掩膜版，(英文名Photo Mask，简称Mask)，它作为平板显示制造过程中最重要的核心关键材料，在平板显示器件制造的光刻工艺中起到曝光掩蔽作用，直接决定了平板显示终端产品的品质。

近年来，我国显示面板行业发展非常迅速，特别是在G11等高世面板领域，已经成为全球产业发展的龙头。掩膜版作为平板显示制造中的关键核心材料，其需求量也随着平板显示产业规模的扩大而不断攀升。在高世代掩膜版的制造过程中，光阻涂布工艺是非常关键的一个环节。光阻涂布作为掩膜版制造的前段制程，其涂布的指标与品质直接决定了掩膜版的图形质量及图形精度。在高世代光掩膜版制造中，一般采用刮涂(Slit Coating)和旋转涂胶(Spin Coating)两种涂布结合方式。刮涂工艺是利用可以均匀出胶的刮刀在匀速前进中将光刻胶刮涂到光罩基板上，旋涂工艺是在刮涂工艺结束后进行。旋涂法的工作原理如下：掩膜版静止时，由掩膜版上方吐出一定量的光阻，然后掩膜版通过高速旋转，在离心作用下，光阻在掩膜版上均匀扩散形成一定厚度的光阻薄膜。旋涂工艺的优劣直接决定了掩膜版上光阻涂布厚度、厚度均匀性和Mura(色差)等技术指标，是整个涂胶工艺中最重要的一环。

Mura本来是一个日本字,随着日本的液晶显示器在世界各地发扬光大,这个字在显示器界就变成一个全世界都可以通的文字，Mura是指显示器亮度不均匀,造成各种痕迹的现象，综合称之为色差。

对于低世代掩膜版来讲，其尺寸较小，采用旋涂的方式比较容易控制光阻涂布的膜厚、均匀性等参数，例如G4.5代掩膜版的尺寸规格为800*920mm，G6代掩膜版的尺寸规格为800*960mm。而对于高世代光掩膜版来讲，以G11代掩膜版为例，其尺寸达到1620mm*1780mm*17mm，掩膜版基板重量大于100Kg，因此其在旋涂过程中产生的振动和离心力较大，会给涂布工艺带来很大的挑战。在旋转涂胶工艺中，旋转速度rpm和旋转时间t直接决定了涂胶的膜厚，旋转速度过高或旋转时间太长都会导致膜厚偏薄；而旋转速度过低或时间太短又会导致膜厚偏大，在这两种情况下涂胶的膜厚均匀性也会变差。此外，旋转旋转加速度a也会严重影响涂胶膜厚的均匀性及色差，旋转加速度过大可能产生大面积色差，而旋转加速度太小导致光罩基板涂胶膜厚中间薄，四周厚，均匀性差。因此如何调节旋转速度、旋转时间及旋转旋转加速度的参数是影响涂胶优劣的关键，是至关重要的。

现有技术对于影响旋转涂胶参数的筛选方法是：将其它所有参数保持不变的情况下更改其中一个参数值来进行测试，然后以此类推，一个一个的去试，该方法工作量太大，效率低；而且浪费较多的掩膜版基板和光刻胶，由于掩膜版基板和光刻胶的价格昂贵，因此试验成本较高。

发明内容

本发明为解决传统筛选方法效率低和成本高的技术问题是提供一种高世代掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法。

本发明所采用的技术方案是：掩膜版旋转涂胶中旋转参数优化方法，包括以下步骤:

S1建立掩膜版模型，选择影响掩膜版旋涂工艺的旋转参数和考核掩膜版涂胶质量的目标参数；

其中，所述旋转参数包括涂胶转盘的旋转速度rpm、涂胶转盘的旋转时间t和涂胶转盘的旋转加速度a；