[发明专利]具有带有凸起延伸区域的晶体管的设备和形成此类晶体管的方法在审

专利信息
申请号: 202010565294.8 申请日: 2020-06-19
公开(公告)号: CN112133702A 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 刘海涛 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L27/11517 分类号: H01L27/11517;H01L27/11529;H01L27/11551;H01L27/11563;H01L27/11573;H01L27/11578
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 带有 凸起 延伸 区域 晶体管 设备 形成 方法
【说明书】:

本申请涉及一种具有带有凸起延伸区域的晶体管的设备和形成此类晶体管的方法,所述晶体管连接于电压节点与负载节点之间,其中所述晶体管包含:覆盖具有第一导电性类型的半导体的电介质;覆盖所述电介质的导体;形成于所述半导体中并且具有第二导电性类型的第一延伸区域基底和第二延伸区域基底;形成为覆盖相应第一延伸区域基底和第二延伸区域基底并且具有所述第二导电性类型的第一延伸区域竖件和第二延伸区域竖件;以及形成于相应第一延伸区域竖件和第二延伸区域竖件中并且具有所述第二导电性类型的第一源极/漏极区域和第二源极/漏极区域,所述第一源极/漏极区域和所述第二源极/漏极区域的导电性水平大于其相应延伸区域竖件的导电性水平。

技术领域

本公开大体上涉及集成电路,并且具体地,在一或多个实施例中,本公开涉及含有具有凸起延伸区域的晶体管的设备和形成此类晶体管的方法。

背景技术

存储器(例如,存储器装置)通常以内部半导体集成电路装置的形式设置于计算机或其它电子装置中。存在许多不同类型的存储器,包含随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、动态随机存取存储器(DRAM)、同步动态随机存取存储器(SDRAM)和闪存。

闪存已经发展成为广泛的电子应用的非易失性存储器的流行来源。闪存通常使用单晶体管存储器单元,所述单晶体管存储器单元可以实现高存储器密度、高可靠性和低功耗。通过对电荷储存结构(例如,浮栅或电荷陷阱(charge trap))进行编程(通常被称为写入)或其它物理现象(例如,相变或极化)实现的存储器单元的阈值电压(Vt)的变化决定了每个存储器单元的数据状态(例如,数据值)。闪存和其它非易失性存储器的常见用途包含个人计算机、个人数字助理(PDA)、数码相机、数字媒体播放器、数字记录器、游戏、电器、车辆、无线装置、移动电话和可移除存储器模块,并且非易失性存储器的用途继续扩展。

与非(NAND)闪存是一种常见的闪存装置,其由于基本存储器单元配置被布置的逻辑形式而如此命名。通常,与非闪存的存储器单元阵列被布置成使得阵列的行的每个存储器单元的控制栅极连接在一起以形成如字线等存取线。阵列的列包含在一对选择门(例如,源极选择晶体管和漏极选择晶体管)之间串联连接在一起的存储器单元串(通常被称为与非串)。每个源极选择晶体管可以连接到源极,而每个漏极选择晶体管可以连接到数据线,如列位线。已知的是,在存储器单元串与源极之间和/或存储器单元串与数据线之间使用一个以上选择门来实现改变。

在存储器装置中,对存储器单元的存取(例如,对存储器单元进行编程)通常利用传递到那些存储器单元的控制栅极的高电压电平,所述高电压电平可能超过20V。对此类电压电平进行选通通常依赖于具有高击穿电压的晶体管,如场效应晶体管(FET)。一种用于产生具有高击穿电压的晶体管的技术在晶体管的源极/漏极区域与控制栅极之间使用轻掺杂区域。此区域有时被称为延伸区域。此类晶体管通常要求集成电路装置被制造的衬底的表面积相对较大。

发明内容

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010565294.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top