[发明专利]晶圆曝光投影图的设定方法及系统有效

专利信息
申请号: 202010575069.2 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN111830793B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 刘智龙;贺晓彬;丁明正;刘强;李亭亭;刘金彪 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 付婧
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 曝光 投影图 设定 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种晶圆曝光投影图的设定方法,其特征在于,包括:

生成覆盖晶圆在第一方向上的上下边缘的矩形曝光投影图;所述曝光投影图具有若干行和列的矩形投影块,每一所述投影块包括若干行和列的投影单元;

沿着所述第一方向移动同一行或同一列的投影块,使得所述同一行或同一列的投影块位于所述晶圆内的投影单元数量增加;

在所述沿着所述第一方向移动同一行或同一列的投影块之前,所述方法还包括:以所述晶圆的圆心为原点,建立直角坐标系;所述直角坐标系的横轴和纵轴分别与所述曝光投影图的两条边平行;

所述方法还包括:确定所述曝光投影图的临界投影块;所述临界投影块为包括至少一个有效投影单元和至少一个临界投影单元的投影块;所述有效投影单元为完全位于晶圆内的投影单元;所述临界投影单元为至少一部分位于所述晶圆外且至少一部分位于所述晶圆内的投影单元;

所述方法还包括:计算出同一行或同一列的第一端投影块和第二端投影块的可移动最短距离;所述第一端投影块为沿着移动方向向所述晶圆内移动的投影块,所述第二端投影块为沿着移动方向向所述晶圆外移动的投影块;所述第一端投影块的可移动最短距离为沿着所述移动方向移动使得所述第一端投影块内的至少一个临界投影单元成为有效投影单元的最短距离;所述第二端投影块的可移动最短距离为沿着所述移动方向移动使得所述第二端投影块内的至少一个有效投影单元成为临界投影单元的最短距离;

当所述第一端投影块的可移动最短距离小于所述第二端投影块的可移动最短距离时,以所述第一端投影块的可移动最短距离沿着所述投影块的一条边的方向移动同一行或同一列的投影块;

当所述第一端投影块的可移动最短距离大于或等于所述第二端投影块的可移动最短距离时,保持所述同一行或同一列的投影块的位置不变;

所述方法还包括:

调整该曝光投影图,使该曝光投影图的中心与所述晶圆的圆心重合。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一方向与所述行或列方向相同。

3.一种晶圆曝光投影图的设定系统,其特征在于,包括:

生成模块,用于生成覆盖晶圆在第一方向上的上下边缘的矩形曝光投影图;所述曝光投影图具有若干行和列的矩形的投影块,每一所述投影块包括若干行和列的投影单元;

调整模块,用于沿着所述第一方向移动同一行或同一列的投影块,使得所述同一行或同一列的投影块位于所述晶圆内的投影单元数量增加;

所述系统还包括建立模块,用于在所述沿着所述第一方向移动同一行或同一列的投影块之前,以所述晶圆的圆心为原点,建立直角坐标系;所述直角坐标系的横轴和纵轴分别与所述曝光投影图的两条边平行;

所述系统还包括确定模块,用于确定所述曝光投影图的临界投影块;所述临界投影块为包括至少一个有效投影单元和至少一个临界投影单元的投影块;所述有效投影单元为完全位于晶圆内的投影单元;所述临界投影单元为至少一部分位于所述晶圆外且至少一部分位于所述晶圆内的投影单元;

所述系统还包括计算模块,用于计算出同一行或同一列的第一端投影块和第二端投影块的可移动最短距离;所述第一端投影块为沿着移动方向向所述晶圆内移动的投影块,所述第二端投影块为沿着移动方向向所述晶圆外移动的投影块;所述第一端投影块的可移动最短距离为沿着所述移动方向移动使得所述第一端投影块内的至少一个临界投影单元成为有效投影单元的最短距离;所述第二端投影块的可移动最短距离为沿着所述移动方向移动使得所述第二端投影块内的至少一个有效投影单元成为临界投影单元的最短距离;

当所述第一端投影块的可移动最短距离小于所述第二端投影块的可移动最短距离时,以所述第一端投影块的可移动最短距离沿着所述投影块的一条边的方向移动同一行或同一列的投影块;

当所述第一端投影块的可移动最短距离大于或等于所述第二端投影块的可移动最短距离时,保持所述同一行或同一列的投影块的位置不变;

所述调整模块,还用于调整该曝光投影图,使该曝光投影图的中心与所述晶圆的圆心重合。

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