[发明专利]一种改善方片边缘涂胶风纹的方法

权利要求书

1.一种改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：该方法是针对方片进行涂覆光刻胶的过程中，通过调整涂胶腔体内部环形流场及湿度，加速了光刻胶在方片内切圆外流动效果，从而减小方片边缘风纹面积；该方法具体包括如下步骤：

(1)将方片送入带有密闭腔体的涂胶单元内，采用涂胶喷嘴将光刻胶喷洒于方片中心处，承片台带动方片转动，光刻胶均匀的涂覆在方片表面；

(2)涂胶完成后，将方片送入热板烘烤，完成光刻胶固化。

2.根据权利要求1所述的改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：所述涂胶单元设有密闭腔体，承片台上部设于密闭腔体内，所述密闭腔体包括上盖，上盖通过螺钉与密闭腔体可拆卸连接；密闭腔体的上盖上开有喷胶口，涂胶喷嘴可在喷胶口位置平移并向方片喷洒光刻胶。

3.根据权利要求1所述的改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：所述光刻胶(厚膜光刻胶)的涂布厚度为1～3μm。

4.根据权利要求1所述的改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：步骤(1)中，光刻胶涂覆过程中，涂胶喷嘴移动速度为100～150mm/s，喷胶量为2～5ml，喷胶速度为0.5～2ml/s，方片(承片台)转速500～3500r/min。

5.根据权利要求1所述的改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：步骤(2)中，热板的烘烤温度为90～120℃，烘烤时间为90～120s。

6.根据权利要求1所述的改善方片边缘涂胶风纹的方法，其特征在于：所述方片为8英寸方片时，经所述方法处理后，方片上涂胶风纹宽度小于5mm。