[发明专利]一种镀层开窗结构及其工艺方法

权利要求书

1.一种镀层开窗结构，其特征在于：它包括基板(1)，所述基板(1)上设置有信号发射器(2)和器件(3)，所述信号发射器(2)和器件(3)外围包封有塑封料(4)，所述信号发射器(2)垂直上方的塑封料(4)表面开设有栅槽结构(8)，所述塑封料(4)的上表面、塑封料(4)和基板(1)的侧表面设置有溅射镀层(5)，所述溅射镀层(5)在栅槽结构(8)的区域为不连续镀层。

2.根据权利要求1所述的一种镀层开窗结构，其特征在于：所述信号发射器件(2)上表面到塑封料(4)上表面的距离大于150um。

3.根据权利要求1所述的一种镀层开窗结构，其特征在于：所述栅槽结构(8)由多条槽组成，多条槽平行布置，相邻两条槽之间的间距范围大于10um。

4.根据权利要求3所述的一种镀层开窗结构，其特征在于：所述槽的深度与宽度比值大于5:1。

5.根据权利要求3所述的一种镀层开窗结构，其特征在于：所述槽的深度范围为50um～500um，宽度范围为10um～100um。

6.一种镀层开窗结构的工艺方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：

步骤一、取一塑封好的基板；

步骤二、对需要开窗的位置进行光学定位；

步骤三、使用镭射激光在定位的塑封料上表面形成栅槽结构；

步骤四、对挖好的栅槽结构内部进行粉尘清洁；

步骤五、基板切割，在切割后的单元产品的上表面和侧表面形成溅射镀层，此溅射镀层在塑封层的平整表面表现为连续状态，在栅槽结构的上表面表现为不连续的状态；

步骤六、取下完成溅镀的产品。

7.根据权利要求6所述的一种镀层开窗结构的工艺方法，其特征在于：步骤一中基板搭载磁控溅射电磁屏蔽工艺，基板上设置有信号发射器件和器件，信号发生器和器件外围被塑封料包裹。

8.根据权利要求6所述的一种镀层开窗结构的工艺方法，其特征在于：步骤四中利用高速气流或干冰清洁的方法将栅槽结构内的粉尘去除干净。