[发明专利]一种清洗装置和清洗方法在审
| 申请号： | 202010600032.0 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111736426A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 袁亚鸿;杨阳;古春笑 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82;G03F1/84;B08B3/08;B08B3/12;B08B13/00;G01N29/07 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 装置 方法 | ||
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：
清洗槽，位于所述清洗槽内的检测振子及清洗振子，连接所述检测振子以及所述清洗振子的控制器；
所述检测振子用于检测待清洗掩膜版上残留物的位置；
所述控制器用于根据所述残留物的位置控制所述清洗振子清洗所述待清洗掩膜版。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述检测振子包括：多个超声波发射接收器。
3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述多个超声波发射接收器分布于所述清洗槽的侧壁上和/或所述清洗槽的底面上；
优选地，所述多个超声波发射接收器呈阵列均匀排布。
4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述超声波发射接收器用于向掩膜版表面发射超声波，并接收反射回的超声波；
所述检测振子还包括：连接所述多个超声波发射接收器及所述控制器的处理器；所述处理器用于确定所述反射回的超声波在所述待清洗掩膜版上的反射位置；
所述检测振子还用于确定接收到所述反射回的超声波的时间与预先记录的最近一次超声波的发射时间的时间差，并根据所述时间差确定所述反射位置是否具有残留物。
5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗振子包括：超声波发射器；
优选地，所述控制器通过增加所述超声波发射器的超声波频率或功率以增加清洗强度，或者，通过降低所述超声波发射器的超声波频率或功率以减弱清洗强度。
6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗振子为多个。
7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述控制器用于确定与所述残留物的位置距离最近的所述清洗振子，并增强所述与所述残留物的位置距离最近的所述清洗振子的清洗强度；
优选地，所述控制器还用于减弱除与所述残留物的位置距离最近的所述清洗振子外其他清洗振子的清洗强度。
8.一种清洗方法，其特征在于，应用于上述权利要求1至8中任一项所述的清洗装置；
利用检测振子检测待清洗掩膜版上残留物的位置；
根据所述残留物的位置控制清洗振子清洗待清洗掩膜版。
9.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，所述利用检测振子检测待清洗掩膜版上残留物的位置之前，还包括：
利用清洗药液清洗所述待清洗掩膜版。
10.根据权利要求8所述的清洗方法，其特征在于，在所述利用检测振子检测待清洗掩膜版上残留物的位置的过程中，控制所述清洗振子处于关闭或待机状态；
在所述根据所述残留物的位置控制清洗振子清洗待清洗掩膜版的过程中，控制所述检测振子处于关闭或待机状态。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
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