[发明专利]显示面板用阵列基板的制造方法有效
申请号: | 202010601725.1 | 申请日: | 2020-06-28 |
公开(公告)号: | CN112213894B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 中泽昭则 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 董煜晗 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 阵列 制造 方法 | ||
一种显示面板用阵列基板的制造方法,其制造适用于显示面板时抑制缺陷产生的阵列基板,其包括:形成规定形状的金属膜(51)的金属膜形成工序;在金属膜(51)的上层侧形成有绝缘性的绝缘膜(52)的绝缘膜形成工序;及在绝缘膜(52)的上层侧形成有导电性的导电膜(54)的导电膜形成工序;在金属膜(51)形成工序后且所述绝缘膜形成工序前,实施金属膜形状检查工序,所述金属膜形状检查工序检查金属膜(51)是否形成为如所述规定形状,在金属膜形状检查工序中,金属膜(51)被识别在所述规定形状以外的区域中形成有突出部分的情况下,在所述绝缘膜形成工序之前,对所述突出部分实施激光照射工序,修正金属膜(51)的形状。
技术领域
本发明关于显示面板用阵列基板的制造方法。
背景技术
以往,已知在对置配置的一对基板之间的密封液晶等电光物质的构成的显示面板。在这样的显示面板中,当对设于一个或两个基板上的电极施加电压时,电光物质的光学特性发生变化,透射光或反射光的状态发生变化,从而图像显示在图像显示面上。有源矩阵驱动的显示面板中,在作为一个基板的阵列基板上形成相互交叉的多个扫描线以及多个信号线、TFT等构成的开关元件和像素电极,在作为另一个基板的对向基板或阵列基板上设置公共电极。该些各种结构物通过在各基板上层叠形成多个规定形状的膜而构成。
在如上述的阵列基板中,构成各种结构物的膜没有形成规定形状的情况下,在使用该结构物制造的显示面板中产生各种不良。例如,如果由导电膜构成的一部分的布线或电极漏电,则不能正常控制电极间的电压,在应用于显示装置时,应为黑色显示的像素有时被视为亮点。这样的亮点在黑色显示画面中非常明显,因此即使是少数也容易成为问题。因此,例如在下述专利文献1中,公开了在公共布线的下层配置由连接于像素电极的金属膜构成的对置电极,在产生了亮点时能够容易地使其黑点化的阵列基板。根据专利文献1,在使用这样的阵列基板制造液晶面板后,在确认了特定像素中的亮点缺陷的发生的情况下,对该像素中的公共布线和对置电极的重叠部分照射激光,使像素电极和共通电极漏电,进而通过对漏极布线也照射激光使其断线,将该像素从数据线中分离出来,从而使亮点黑点化。
现有技术文献
专利文献
[专利文献1]国际公开2017/199799号
发明内容
本发明所要解决的技术问题
然而,为了抑制上述专利文献1的方法中的亮点等缺陷的发生,需要在公共布线的下层配置由金属膜构成的对置电极,存在阵列基板的结构复杂化等问题。另外,在构成各种结构物的金属膜被形成为超出规定形状以外的区域而突出的情况下,根据阵列基板的结构,即使未发生漏电,也通过向突出部分施加电压而形成寄生电容,从而产生辉点等缺陷。在这样的阵列基板中,如果将所有的亮点都像上述那样黑点化,则存在黑点的发生频率超过许电容的问题。
本发明是基于上述情况而完成的,其目的在于提供一种制造阵列基板的方法,该方法抑制了应用于显示面板时的亮点等缺陷的产生。
本发明的一个实施方式为,一种显示面板用阵列基板的制造方法,包括:形成规定形状的金属膜的金属膜形成工序;在所述金属膜的上层侧形成有绝缘性的绝缘膜的绝缘膜的绝缘膜形成工序;及在所述绝缘膜的上层侧形成有导电性的导电膜的导电膜形成工序,其特征在于,在所述金属膜形成工序后且所述绝缘膜形成工序前,实施金属膜形状检查工序,所述金属膜形状检查工序检查所述金属膜是否形成为如所述规定形状;在所述金属膜形状检查工序中,所述金属膜被识别在所述规定形状以外的区域中形成有突出部分的情况下,在所述绝缘膜形成工序之前,对所述突出部分实施激光照射工序,修正所述金属膜的形状。
(2)另外,本发明的一个实施方式为在上述(1)的基础上,其特征还在于在所述激光照射工序中,通过激光照射去除所述突出部分的基部,形成与所述金属膜中形成为所述规定形状的规定形状部分电隔离的分离部分的显示面板用阵列基板的制造方法。
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