[发明专利]图案描绘方法

说明书

本发明的图案描绘装置及图案描绘方法，稳定地维持描绘超详细图案所需的扫描线的配置精度或光学性能。图案描绘装置(EX)，使基板(P)上所聚光的光点(SP)沿着描绘线(SL)进行主扫描，并且使基板(P)进行副扫描，藉此于基板(P)上描绘既定图案；该图案描绘装置(EX)使由多面镜(PM)反射的第1光束(LBa)聚光并作为光点(SPa)而投射至第1描绘线(SLa)上，并且使由多面镜(PM)反射的第2光束(LBb)聚光并作为光点(SPb)而投射至第2描绘线(SLb)上。上述两条描绘线(SLa、SLb)于基板(P)上位于副扫描方向上的相同位置，且于主扫描方向上错开。

本发明为申请日为2016年6月17日，申请号为“201680035608.5”，发明名称为“图案描绘装置及图案描绘方法”的发明专利的分案申请。

技术领域

本发明关于一种扫描照射至被照射体上的光束的光点以描绘图案的图案描绘装置及图案描绘方法。

背景技术

如日本特开2004-117865号公报所揭示，已知有如下技术：于通过激光光束的扫描而于感光体上描绘图像的激光扫描装置(彩色激光列印机)中，使用一个多面镜扫描多条激光光束的各者，沿着多条扫描线描绘图像。

日本特开2004-117865号公报中，揭示有如下串接型激光扫描装置，该串接型激光扫描装置于被照射体的移动方向即副扫描方向上隔开地平行配置扫描线，该扫描线由利用一个多面镜的不同反射面的各者而偏向扫描的多条激光光束生成。对于日本特开2004-117865号公报所揭示的激光扫描装置而言，被照射体(感光鼓等)上所能描绘出的图像的扫描线方向(主扫描方向)最大尺寸，由一条扫描线的长度决定。因此，为了增大所能描绘出的图像的主扫描方向尺寸，需要以使扫描线变更长的方式，增大多面镜之后的扫描光学系统(透镜或面镜等)。另一方面，对于利用光点的扫描而描绘最小线宽为数μm～20μm左右的电子电路用的高精细图案且使其曝光的曝光装置而言，需要使光点的尺寸(直径)为最小线宽的数分之一(1/2～1/4)左右，并且需要与扫描线上的光点的投射位置同步且高精度及高速地控制与描绘图案的数据相对应的光点的强度调变。然而，若使通过通过多面镜的光束偏向扫描而生成的一条扫描线变长，则随着多面镜之后的扫描光学系统等的大型化，难以稳定地维持描绘高精细图案时所需的扫描线的配置精度或光学性能。

发明内容

本发明的第1态样是一种图案描绘装置，使来自光源装置的光束呈点状地聚光于被照射体上，使聚光后的光点沿着既定的扫描线进行主扫描，并且对上述被照射体进行副扫描，藉此在上述被照射体上描绘既定图案，其具备：旋转多面镜，为了上述主扫描而绕旋转轴旋转；第1导光光学系统，从第1方向朝上述旋转多面镜投射来自上述光源装置的第1光束；第2导光光学系统，从与上述第1方向不同的第2方向朝上述旋转多面镜投射来自上述光源装置的第2光束；第1投射光学系统，使由上述旋转多面镜反射的上述第1光束聚光并作为第1光点而投射至第1扫描线上；以及第2投射光学系统，使由上述旋转多面镜反射的上述第2光束聚光并作为第2光点而投射至第2扫描线上；以使上述第1扫描线与上述第2扫描线于上述被照射体上位于上述副扫描方向上的相同位置且在上述主扫描方向上错开的方式，配置上述第1投射光学系统与上述第2投射光学系统。