[发明专利]一种降低LETID的P型晶体硅太阳能电池的制备方法有效
申请号: | 202010606899.7 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN111916528B | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 杨智;魏青竹;倪志春;钱洪强;连维飞;张树德;赵保星 | 申请(专利权)人: | 苏州腾晖光伏技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0288;H01L31/0216 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 杨敏 |
地址: | 215542 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 letid 晶体 太阳能电池 制备 方法 | ||
本发明提供一种降低LETID的P型晶体硅太阳能电池的制备方法,包括对P型单晶硅片的正面制绒,和形成磷掺杂面,制备选择性发射极;且述P型单晶硅片采用背靠背的方式放置,在背面沉积AlOx层;且在所述正面和背面沉积SiNx层;然后对所述P型单晶硅片进行退火工艺。本发明通过在在SiNx镀膜后,增加退火步骤,调节晶体硅电池内氢浓度,降低由过量氢元素造成的的热辅助光致衰减,进而提高了晶体硅电池封装组件的输出功率。
技术领域
本发明涉及太阳能电池领域,特别涉及一种降低LETID的P型晶体硅太阳能电池的制备方法。
背景技术
常规的化石燃料日益消耗殆尽,在所有的可持续能源中,太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。目前,在所有的太阳能电池中,硅太阳能电池相比其他类型的太阳能电池,有着优异的电学性能和机械性能,在光伏领域占据着重要的地位。因此,研发高性能的硅太阳能电池已经成为各国光伏企业的主要研究方向。
近年来,热辅助光致衰减(Light and elevated Temperature InducedDegradation,LETID)越来越受到光伏行业的重视。在光和热综合作用下,晶体硅电池封装组件的输出功率明显下降,影响光伏电站的发电量。为了保证光伏电站的发电能力,势必要减少晶体硅电池的热辅助光致衰减。晶体硅电池中氢元素过量的情况下,电池中氢元素的浓度越高,晶体硅光伏电池的热辅助光致衰减越明显。
而现有技术中,晶体硅电池中的氢元素主要主要来自于SiNx层的制备工序,SiNx层是利用等离子增强化学气相沉积的方式进行,反应源主要为硅烷(SiH4)和氨气(NH3),在SiNx层沉积的同时,大量的氢元素进入到SiNx层和硅基体内,造成晶体硅电池的氢元素过量,如过量的氢元素停留在晶体硅电池内,将导致热辅助光致衰减。
因此,亟待通过优化P型晶体硅电池制备方法产生一种提升电池光电转换效率的P型晶体硅太阳电池。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种降低LETID的P型晶体硅太阳能电池的制备方法,所述方法包括以下步骤:
S1、对P型单晶硅片的正面制绒,在所述正面形成陷光绒面;
S2、在所述P型单晶硅片的正面进行磷扩散形成磷掺杂面,形成PN结作为选择性发射极;
S3、清洗所述P型单晶硅片的背面的氧化层,并利用强酸或强碱溶液抛光所述背面,所述背面为电池的非磷掺杂面;
S4、对所述P型单晶硅片的背面进行氧化,形成SiO2氧化层;
S6、所述P型单晶硅片采用背靠背的方式放置,在所述背面沉积AlOx层;
S7、在所述正面和背面沉积SiNx层;
S8、对所述P型单晶硅片进行退火工艺;
S9、在所述背面开槽;
S10、在所述正面和背面形成金属电极。
作为本发明实施方式的进一步改进,所述步骤S8中的退火工艺采用管式退火炉,退火温度500-800摄氏度,退火时间1-30分钟。
作为本发明实施方式的进一步改进,所述S1之前还包括去除硅片表面杂质及机械损伤。
作为本发明实施方式的进一步改进,所述P型单晶硅片包括P型硅片、P型硅片经过硼重掺后的P+硅片以及N型硅片经过硼掺杂后的P型硅片。
作为本发明实施方式的进一步改进,所述S4中氧化方法具体包括采用浓硝酸氧化、臭氧氧化或热氧化进行氧化处理。
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