[发明专利]水路检测系统和水路检测方法在审

专利信息
申请号: 202010608513.6 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111811798A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 王建军;朱青;汪佳;施政;黄保强 申请(专利权)人: 徐州晶睿半导体装备科技有限公司
主分类号: G01M13/00 分类号: G01M13/00;G01M3/28
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 蔡梦媚
地址: 221004 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 水路 检测 系统 方法
【说明书】:

发明公开了一种水路检测系统和水路检测方法,水路检测系统包括供液装置、调压装置、压力检测组件、流量检测装置、采集装置和信息处理装置,调压装置用于调节供液装置提供的检测液体的压力,压力检测组件包括第一压力检测装置和第二压力检测装置,流量检测装置适于监测出口处的流量,采集装置用于采集压力检测组件和流量检测装置的监测数据,信息处理装置用于对采集装置采集的数据进行处理以得到实测关系曲线,且适于通过实测关系曲线和标准关系曲线的对比分析得到检测结果,实测关系曲线为进口和出口之间的压力差和出口处的流量之间的关系曲线。根据本发明的水路检测系统,结构简单,成本较低,更加直观地反映待检测水路是否存在质量问题。

技术领域

本发明涉及水路检测技术领域,尤其是涉及一种水路检测系统和水路检测方法。

背景技术

随着半导体相关领域技术的大力发展,并努力逐步实现半导体相关领域技术的自主研发创造,直拉法用单晶炉的发展迫在眉睫。直拉法用单晶炉的加工生产过程中存在许多检测难题,其中之一便是单晶炉腔体水路加工过程中产生的质量问题,如果单晶炉的腔体水路在长晶生产过程中出现问题,则会导致单晶炉炉体过热,一方面会影响长晶炉设备的机械使用寿命,另一方面可能会对晶体生长产生一定影响,在腔体水路出现严重问题时甚至会造成安全事故。

然而,对单晶炉腔体水路的检测手段较为有限,尤其是在炉体加工封装完毕后,由于腔体水路受其本身结构的影响,无法对腔体水路的加工质量及功能实现进行常规质量检测。

相关技术中,一般采用以下方法对腔体水路进行检测:1、射线检测,即使用射线照射被检测物体以反映被检测物体的内部质量情况,然而,由于腔体水路内设有覆板、隔水条等干涉部件,导致成像效果不好,易造成错误判断,且该检测方式价格较高,使用场所及检测位置存在限制,不方便开展检测工作;2、保压试验:使用工装及工具对腔体水路施加压力,检测在规定的试验压力和保压时间内是否有压降,然而,保压试验检测只能检测整个腔体水路的密闭性,对于腔体水路内隔水条等部件的焊接质量及其他加工质量无法进行检测,无法判断腔体水路的加工质量;3、烘炉测试:在单晶炉总装后进行拉晶工况试验,通过炉体烘烤,使用人工触感或热成像等方式发现局部过热现象而推导出腔体水路存在问题,然而,这种检测方式存在超温风险,引起冷却水在腔体水路内沸腾的隐患,而且,若发现腔体水路存在质量问题,则需要将单晶炉所有部件拆卸返工,成本损失较大且炉体二次安装也需要更多的人工以及工时。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种水路检测系统,所述水路检测系统结构简单,成本较低,可以更加直观地反映待检测水路是否存在质量问题。

本发明还提出一种水路检测方法。

根据本发明第一方面的水路检测系统,待检测水路具有进口和出口,所述水路检测系统用于检测待检测水路且包括:供液装置,所述供液装置用于提供检测液体;调压装置,所述调压装置用于调节所述供液装置提供的所述检测液体的压力;压力检测组件,所述压力检测组件包括第一压力检测装置和第二压力检测装置,所述第一压力检测装置和第二压力检测装置适于分别设在所述进口和所述出口处,以监测所述进口和所述出口处的检测液体的压力;流量检测装置,所述流量检测装置适于设在待检测水路的所述出口处,以监测所述出口处的流量;采集装置,所述采集装置用于采集所述压力检测组件和所述流量检测装置的监测数据;信息处理装置,所述信息处理装置与所述采集装置通信连接,所述信息处理装置用于对所述采集装置采集的数据进行处理以得到实测关系曲线,且适于通过实测关系曲线和标准关系曲线的对比分析得到检测结果,其中,所述实测关系曲线为所述进口和所述出口之间的压力差和所述出口处的流量之间的关系曲线。

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