[发明专利]用于获取电子反向散射衍射图样的方法和系统在审
申请号: | 202010610022.5 | 申请日: | 2020-06-30 |
公开(公告)号: | CN112179928A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | P·斯特斯卡尔;C·J·斯蒂芬斯 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | G01N23/203 | 分类号: | G01N23/203 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周学斌;申屠伟进 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 获取 电子 反向 散射 衍射 图样 方法 系统 | ||
1.一种用于对样品进行成像的方法,其包含:
通过将带电粒子束引向ROI内的多个撞击点,并检测从所述多个撞击点中的每个撞击点散射的粒子来执行第一次扫描;
基于从所述撞击点散射的所述检测到的粒子,计算所述多个撞击点中的每个撞击点的信号质量;
基于每个撞击点的所述信号质量,计算所述ROI的信号质量,其中所述ROI的所述信号质量低于阈值信号质量;
通过在计算所述ROI的所述信号质量之后,将所述带电粒子束引向所述ROI内的所述多个撞击点中的一个或多个,并检测从所述ROI内的所述多个撞击点中的所述一个或多个散射的粒子来执行第二次扫描;和
基于在所述第一次扫描和所述第二次扫描期间所述检测到的粒子,形成所述ROI的结构图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其进一步包含:基于在所述第二次扫描期间从所述多个撞击点中的所述一个或多个散射的所述检测到的粒子,更新所述多个撞击点中的所述一个或多个的所述信号质量;和基于所述多个撞击点中的所述一个或多个的所述信号质量,更新所述ROI的所述信号质量,其中所述ROI的更新后的信号质量高于所述阈值信号质量。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的方法,其中基于从所述撞击点散射的所述检测到的粒子计算所述多个撞击点中的每个撞击点的所述信号质量包括:基于从所述撞击点散射的所述检测到的粒子,形成每个撞击点的衍射图样,和基于每个撞击点的对应衍射图样,计算每个撞击点的所述信号质量。
4.根据权利要求3所述的方法,其中通过检测器检测从所述多个撞击点中的每个撞击点散射的所述粒子,并且基于从所述撞击点散射的所述检测到的粒子形成每个撞击点的所述衍射图样包括:记录所述检测到的粒子中的每一个在所述检测器上的位置;和基于所述检测到的粒子中的每一个的所述位置,形成所述衍射图样。
5.根据权利要求4所述的方法,其中基于每个撞击点的对应衍射图样计算每个撞击点的所述信号质量包括:基于每个撞击点的对应衍射图样的质量,计算每个撞击点的所述信号质量。
6.根据权利要求1至2中任一项所述的方法,其进一步包含校正所述第一次扫描和所述第二次扫描之间的带电粒子束漂移。
7.根据权利要求1所述的方法,其中检测从所述多个撞击点中的每个撞击点散射的粒子包括:响应于每个散射粒子撞击检测器,记录所述撞击的散射粒子的能量或时间戳,以及所述撞击的散射粒子在所述检测器上的位置。
8.一种用于对样品进行成像的方法,其包含:
通过将带电粒子束引向感兴趣区域(ROI)的多个撞击点并检测从所述多个撞击点散射的粒子,重复地扫描所述样品的所述ROI;
在重复扫描期间,计算所述多个撞击点中的每个撞击点的信号质量,并在所述ROI的每个单次扫描之后,基于每个撞击点的所述信号质量,更新所述ROI的信号质量,其中基于从特定撞击点散射的所述检测到的粒子,计算所述特定撞击点的所述信号质量;
响应于所述ROI的所述信号质量高于阈值信号质量,终止所述重复扫描;和
基于在所述重复扫描期间的所述检测到的粒子,形成所述ROI的结构图像。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述结构图像中的每个像素对应于所述多个撞击点中的撞击点,并且其中基于在所述重复扫描期间的所述检测到的粒子形成所述ROI的所述结构图像包括:对于每个撞击点,基于在所述重复扫描期间从所述撞击点散射的所有的所述检测到的粒子,形成衍射图样;和基于所述ROI的对应衍射图样,确定所述ROI的所述结构图像的每个像素值。
10.根据权利要求8至9中任一项所述的方法,其进一步包含:基于在所述重复扫描期间所述多个撞击点中的每个撞击点的所述信号质量,调整所述重复扫描的扫描模式。
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