[发明专利]一种制备达托霉素杂质RS-1和杂质RS-3的方法在审

专利信息
申请号: 202010610210.8 申请日: 2020-06-29
公开(公告)号: CN113929743A 公开(公告)日: 2022-01-14
发明(设计)人: 郭朝江;刘治江;朱兵峰;刘忠 申请(专利权)人: 鲁南制药集团股份有限公司
主分类号: C07K7/06 分类号: C07K7/06;C07K1/12;C07K1/16;C07K1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 276006 *** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 制备 霉素 杂质 rs 方法
【说明书】:

本发明属于药物制备领域,涉及一种制备达托霉素杂质RS‑1和杂质RS‑3的方法,具体是将达托霉素样品在碱性条件下水解,再进行酸性条件下水解,然后用碱中和,最后通过制备色谱纯化,得到高纯度的达托霉素杂质RS‑1和RS‑3。本发明提供的制备达托霉素杂质RS‑1和RS‑3的方法操作简便,成本低廉,可根据需要放大制备,满足研究和生产的需要。

技术领域

本发明属于药物制备领域,具体涉及一种达托霉素杂质RS-1和杂质RS-3的制备方法。

背景技术

达托霉素(Daptomycin)是经链霉菌(S.roseosporus)发酵液中提取得到的含有十碳侧链的首个新型环脂肽类抗生素,它通过多方面破坏细菌细胞膜的功能,并迅速杀死革兰氏阳性菌,尤为重要的是,它在体外对甲氧西林(Methicillin)、万古霉素和利奈唑胺等高致病性耐药菌有很好的杀菌效果,且毒副作用小,为临床危重感染患者提供了一种新的治疗手段。

达托霉素杂质的研究是保证产品质量和安全性的前提,因此能够分离纯化出达托霉素中的杂质并进行系统研究是非常必要的。达托霉素杂质RS-1(C44H66N10O15)和杂质RS-3(C35H51N7O11)是达托霉素质量控制中重点关注的杂质,其结构式如下:

达托霉素的生产主要是通过微生物发酵法来实现的,该方法具有产量高和污染小的显著优势,是目前工业化生产首选的技术。发酵产物的复杂性、特殊性以及制药行业对发酵产品纯度、收率的严格要求,使得发酵产品的分离纯化在整个生物加工过程(包括髙产菌株的选育、微生物发酵、酶促反应等)中所处地位举足轻重。发酵液是一种极其复杂的多相、多组分体系,含有多种不明成分,杂质的研究是保证产品安全性的前提,因此研究药物杂质的来源、检测方法、限度和分离纯化等,具有重要意义,尤其影响药品研发中剂型选择、处方组成、工艺确定、分析方法的研究以及产品的储存等。杂质是创新药物质量研究、质量控制和安全性研究的重点,直接体现创新的研究水平。达托霉素产品中常包含有脱水达托霉素、异构达托霉素、达托霉素内酯水解物等杂质,严重影响产品质量和安全,因此能够制备出达托霉素中的杂质并进行系统研究是非常必要的。

欧洲专利1586580A2、CN01805212.6公开了达托霉素14个杂质及其归属,并未具体涉及达托霉素杂质分离方法。

中国抗生素杂志(2013年10月第38卷第10期,760~764)中报道了达托霉素在不同酸碱(pH2、pH4、pH6、pH8、pH10)条件下产生的5个主要的相关杂质,利用分析和制备型HPLC进行杂质制备并对其结构进行研究,其中液相制备需要消耗大量的流动相、收率低、生产周期长、操作复杂和制备成本高。CN106866791A、CN 105699554A和周旭燕《达托霉素产品杂质组分的鉴定与分离控制》公开了高纯度达托霉素内酯水解物的分离纯化及制备方法。

CN104387444A公开了达托霉素杂质RS-2高纯度样品的制备方法,使用树脂层析、超滤/纳滤、硅胶层析,并结合高效液相分析,方法复杂,操作难度大。

CN106866790A公开了达托霉素RS-5/6、RS-7和RS-7a/7b杂质的制备方法,制备液相纯化时需使用手性色谱柱Ib-SitC8/6045-1,制备成本较高。

中国抗生素杂志(2019年5月第44卷第5期,574-579)中报道了分子量为1617的新杂质,根据杂质的化学结构,推测该杂质可能来源于发酵过程中补加的癸酸,杂质的制备仍是使用液相制备,也需消耗大量的流动相、收率低、制备成本高。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鲁南制药集团股份有限公司,未经鲁南制药集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010610210.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top