[发明专利]电迁移测试结构有效

专利信息
申请号: 202010611392.0 申请日: 2020-06-29
公开(公告)号: CN111653549B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 马琼;曹巍;王焱;陈雷刚 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L21/66;G01R31/28;G01R31/52
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 迁移 测试 结构
【权利要求书】:

1.一种电迁移测试结构,其特征在于,包括:

待测试线;

引线,设置在与所述待测试线不同的结构层中并与所述待测试线电性连接,其中,所述引线的一端用于连接测试垫片,所述引线的另一端朝向所述待测试线的方向延伸,以使所述引线具有与所述待测试线空间交叠的交叠区;

第一连通垫,设置在所述引线的所述交叠区中,以连通所述引线和所述待测试线;以及,

若干第二连通垫,设置在所述引线的所述交叠区朝向所述待测试线的表面上,其中,所述第二连通垫的一端与所述引线电连接,所述第二连通垫的另一端朝向远离引线方向延伸且不与所述待测试线连通。

2.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第二连通垫至少为两个,至少两个所述第二连通垫以所述第一连通垫为中心环绕所述第一连通垫设置。

3.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第二连通垫为多个,在远离所述第一连通垫的方向上,多个所述第二连通垫的排布密度逐渐减小。

4.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第二连通垫为多个,多个所述第二连通垫均匀设置在所述引线的所述交叠区上。

5.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述第一连通垫和/或所述第二连通垫的横截面积为矩形或圆形。

6.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述引线的宽度大于所述待测试线的宽度。

7.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述引线包括至少两层依次设置的子引线,相邻所述子引线之间夹持至少一个第三连通垫,以使所述第三连通垫连通相邻的所述子引线;所述第二连通垫设置在顶层的所述子引线上。

8.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述待测试线包括主待测试线及围设所述主待测试线的辅助待测试线,所述第一连通垫位于所述引线和所述主待测试线之间以连通所述引线和所述主待测试线,所述第二连通垫位于所述引线和所述辅助待测试线之间。

9.如权利要求1所述的电迁移测试结构,其特征在于,所述待测试线包括金属层和绝缘层,所述绝缘层包裹所述金属层,所述绝缘层上设有通孔,所述第一连通垫穿过所述通孔与所述金属层连接。

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