[发明专利]掩膜片和掩膜版在审

专利信息
申请号: 202010614323.5 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN111809146A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 张丁成;王水俊;李伟丽;范波涛;孙飞 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 方晓燕
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 膜片 掩膜版
【权利要求书】:

1.一种掩膜片,其特征在于,包括:

蒸镀区,所述蒸镀区具有多个蒸镀开口;

非蒸镀区,所述非蒸镀区与所述蒸镀区邻接设置,所述非蒸镀区划分有阻隔区与焊接区,所述阻隔区具有多个阻隔开口,且多个所述阻隔开口位于所述焊接区与所述蒸镀区之间。

2.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述蒸镀区包括有效蒸镀区和虚拟蒸镀区,所述阻隔区位于所述虚拟蒸镀区与所述焊接区之间。

3.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述蒸镀区为矩形,所述非蒸镀区邻接于所述蒸镀区的短边,且相对于所述蒸镀区对称设置。

4.根据权利要求3所述的掩膜片,其特征在于,所述蒸镀区的长边方向为第一方向,所述蒸镀区的短边方向为第二方向,所述蒸镀开口沿第一方向延伸,所述阻隔开口沿第一方向延伸。

5.根据权利要求4所述的掩膜片,其特征在于,所述阻隔区内沿所述第一方向排布有多列所述阻隔开口,任意相邻两列的所述阻隔开口的中心错位排布。

6.根据权利要求4所述的掩膜片,其特征在于,所述阻隔区内沿所述第二方向排布有多行所述阻隔开口,所述阻隔开口的行间距从所述阻隔区的中心向两端逐渐增大。

7.根据权利要求4所述的掩膜片,其特征在于,所述阻隔区内沿所述第二方向排布有多行所述阻隔开口,每一行所述阻隔开口的宽度从所述阻隔区的中心向两端逐渐减小。

8.根据权利要求4所述的掩膜片,其特征在于,所述阻隔区与所述蒸镀区沿所述第二方向的长度相等。

9.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述多个阻隔开口的形状包括长条形、椭圆形、菱形中的至少一种;

优选地,所述阻隔开口的形状为长条形,所述长条形的长宽比范围为5:1-4:1。

10.一种掩膜版,其特征在于,包括掩膜框架以及如权利要求1-9中任一项所述的掩膜片,所述掩膜框架与所述掩膜片通过所述焊接区固定。

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