[发明专利]一种出土文物的真空浸渍保护系统

权利要求书

1.一种出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于,包括真空浸渍装置和以PDMS/SiO2无机-有机纳米复合材料为浸渍剂材料；

所述真空浸渍装置包括安装架；

抽气底座，所述抽气底座固定安装于所述安装架内表面的底部，所述抽气底座的底部连通有抽气管，所述抽气管的一端与真空泵连通；

液压缸，所述液压缸固定安装于所述安装架的顶部，所述液压缸输出轴的底端固定安装有第一密封罩，所述第一密封罩的表面开设有环形凹槽，所述环形凹槽内部设置有增流组件，所述第一密封罩上且位于增流组件的下方设置有输送组件；

储液箱，所述储液箱固定于所述安装架的一侧，所述输送组件与所述储液箱的上侧连通；

轴流风扇，所述轴流风扇固定安装于所述安装架背面的上侧，所述安装架的内侧且位于轴流风扇的一侧固定安装有第二密封罩，所述增流组件与所述第二密封罩连通。

2.如权利要求1所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述抽气底座包括放置座，所述放置座内部的中间设置有支撑板，所述支撑板上开设有多个通孔，所述支撑板的下侧固定连接有脱气膜。

3.如权利要求2所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述放置座的表面固定连接有支撑环，所述支撑环的顶部固定连接有密封凸块，所述密封凸块的表面套设有密封胶套。

4.如权利要求1所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述增流组件包括环形导流筒和排气孔，所述环形导流筒的内侧开设有出气孔，所述出气孔与排气孔为错开设置。

5.如权利要求4所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述所述环形导流筒的顶部设置有内螺纹环，所述环形凹槽内表面的上侧设置有内螺纹，所述内螺纹环通过内螺纹螺纹连接于所述环形凹槽的表面。

6.如权利要求5所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述环形导流筒的两侧均连通有导气管，两个所述导气管的一端连通有第一三通管，所述第一三通管的底端连通有连接管，所述连接管的一端与所述第二密封罩的一侧连通。

7.如权利要求1所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述输送组件包括两个进液槽和两个进液管，两个所述进液槽分别开设于所述的第一密封罩内壁的两侧，两个所述进液管的一端与所述进液槽连通，所述进液槽的内部设置有缓冲件，所述缓冲件上开设有导流孔。

8.如权利要求7所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：两个所述进液管的一端连通有第二三通管，所述第二三通管的底端连通有导液管，所述导液管的一端与所述储液箱的上侧连通。

9.如权利要求1所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：所述第一密封罩顶部的一侧固定安装有气压检测器，所述第一密封罩内壁顶部的一侧对应气压检测器的位置开设有凹槽，所述第一密封罩的底部开设有环形密封槽。

10.如权利要求1所述的出土文物的真空浸渍保护系统，其特征在于：包括以下方法：

S1：对文物表面及内部的泥土等进行清洁，然后采用纱布对强度较低的文物进行包扎加固；

S2:将经清污与包扎处理后的文物完全浸泡在高浓度的丙酮溶液中，每隔3天更换1次，共更换3次；

S3：将浸泡后的文物放置到放置座内部的支撑板，然后启动液压缸，推动第一密封罩罩在放置座上，其中放置座边侧的密封凸块对应插入到第一密封罩底部的环形密封槽内部进行密封；

S4：启动真空泵，真空泵通过抽气管将第一密封罩内部抽成负压，从而使位于储液箱内部的浸渍剂通过导液管进入到进液槽，然后通过缓冲件上的导流孔逐渐缓慢的进入到第一密封罩内部，逐渐将文物浸没，且使浸渍剂位于凹槽下方，关闭导液管上的阀门，将第一密封罩内部的气压在60-6Pa，保持1-3小时；

S5：然后再次通过真空泵控制第一密封罩内部的气压，当气压达1-3个大气压后，再保持1-2小时；

S6：浸渍结束后，将第一密封罩内部的浸渍剂放出，然后通过液压缸使第一密封罩向上微抬起，然后通过逆时针转动环形导流筒，环形导流筒向下移动，使出气孔与排气孔对应，开启轴流风扇，产生气流增加文物表面的气流，加快文物表面浸渍剂固化，且当浸溃剂材料呈半凝固状态时，解除包扎的纱布。