[发明专利]一种出土文物的真空浸渍保护系统在审

专利信息
申请号: 202010625043.4 申请日: 2020-07-01
公开(公告)号: CN111807869A 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 武仙竹 申请(专利权)人: 重庆师范大学
主分类号: C04B41/81 分类号: C04B41/81;C04B41/45
代理公司: 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 代理人: 赵红霞
地址: 400047 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 一种 出土文物 真空 浸渍 保护 系统
【说明书】:

发明公开了一种出土文物的真空浸渍保护系统,包括真空浸渍装置和以PDMS/SiO2无机‑有机纳米复合材料为浸渍剂材料;所述真空浸渍装置包括安装架;抽气底座,所述抽气底座固定安装于所述安装架内表面的底部,所述抽气底座的底部连通有抽气管,所述抽气管的一端与真空泵连通;该出土文物的真空浸渍保护系统,该真空浸渍装置通过设置抽气底座配合输送组件在对抽真空的同时将浸渍剂加入到第一密封罩内部,且通过设置脱气膜,可以在脱气的同时保证液体不会漏出,将双腔系统改为一个系统,同时通过设置增流组件,当真空浸泡结束后可以增加文物表面的气流,提高固化的速度,提高整个真空浸渍的效率。

技术领域

本发明具体涉及一种出土文物的真空浸渍保护系统。

背景技术

文物是指具体的物质遗存,它的基本特征是:第一,必须是由人类创造的,或者是与人类活动有关的;第二,必须是已经成为历史的过去,不可能再重新创造的。目前,各个国家对文物的称谓并不一致,其所指涵义和范围也不尽相同,因而迄今尚未形成一个对文物共同确认的统一定义。

现有对文物进行真空和药剂浸渍处理过程中通常设置双腔真空系统,在使用时需要分别抽真空,操作繁琐、且文物在浸渍后通常为自然风干,整个文物处理的速率慢、效率低。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足之处,提供一种出土文物的真空浸渍保护系统,提高文物通过真空浸渍处理效率的目的。

为解决上述技术问题,本发明提供的一种出土文物的真空浸渍保护系统,包括真空浸渍装置和以PDMS/SiO2无机-有机纳米复合材料为浸渍剂材料;

所述真空浸渍装置包括安装架;

抽气底座,所述抽气底座固定安装于所述安装架内表面的底部,所述抽气底座的底部连通有抽气管,所述抽气管的一端与真空泵连通;

液压缸,所述液压缸固定安装于所述安装架的顶部,所述液压缸输出轴的底端固定安装有第一密封罩,所述第一密封罩的表面开设有环形凹槽,所述环形凹槽内部设置有增流组件,所述第一密封罩上且位于增流组件的下方设置有输送组件;

储液箱,所述储液箱固定于所述安装架的一侧,所述输送组件与所述储液箱的上侧连通;

轴流风扇,所述轴流风扇固定安装于所述安装架背面的上侧,所述安装架的内侧且位于轴流风扇的一侧固定安装有第二密封罩,所述增流组件与所述第二密封罩连通。

优选的,所述抽气底座包括放置座,所述放置座内部的中间设置有支撑板,所述支撑板上开设有多个通孔,所述支撑板的下侧固定连接有脱气膜。

通过设置脱气膜可以使气体排出同时可以防止液体排出,支撑板上气体可以通过通孔然后经过脱气膜排出。

优选的,所述放置座的表面固定连接有支撑环,所述支撑环的顶部固定连接有密封凸块,所述密封凸块的表面套设有密封胶套。

通过设置密封凸块,配合第一密封罩底部的环形密封槽,使第一密封罩与放置座结合紧密。

优选的,所述增流组件包括环形导流筒和排气孔,所述环形导流筒的内侧开设有出气孔,所述出气孔与排气孔为错开设置。

通过将出气孔与排气孔错开设置,可以当不需要增流组件时,可以保持第一密封罩内部的密封。

优选的,所述所述环形导流筒的顶部设置有内螺纹环,所述环形凹槽内表面的上侧设置有内螺纹,所述内螺纹环通过内螺纹螺纹连接于所述环形凹槽的表面。

环形导流筒通过内螺纹环与环形凹槽内表面螺纹连接,可以调节环形导流筒的位置,使出气孔与排气孔对应形成通路。

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