[发明专利]液体扰流装置及电镀系统有效

专利信息
申请号: 202010627012.2 申请日: 2020-07-01
公开(公告)号: CN113881998B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 郭忠军 申请(专利权)人: 矽磐微电子(重庆)有限公司
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D5/08;C25D21/10
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥
地址: 401331 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 液体 装置 电镀 系统
【说明书】:

发明提供一种液体扰流装置及电镀系统,所述液体扰流装置包括支架、连接于所述支架的第一扰流元件及第二扰流元件,所述第一扰流元件具有用于导引液体的第一导流面,所述第二扰流元件具有用于导引液体的第二导流面,所述第一导流面所在的平面与所述第二导流面所在的平面相交。由于第一扰动面和第二扰动面呈夹角设置,使液体向不同方向进行搅动,从而改善液体的传质和交换,提高液体的均匀性。

技术领域

本发明涉及一种液体扰流装置及电镀系统。

背景技术

传统电镀行业均在槽液中配置喷嘴,通过喷嘴扰流的方式强化传质,改善电镀药水交换。为达到扇形喷液目的,喷嘴多采用狭小的孔道,这些狭小的孔道容易被异物堵塞,导致此喷嘴对应位置的产品表面液体传质减弱,进而引起镀铜凹陷、空洞等缺陷。此外,由于喷嘴设置在循环泵的出口管路上,需承受一定的水压,长期震动容易导致喷嘴脱落。而且,这两类异常一旦发生,都不容易被察觉,造成批量产品的电镀不良。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明提供一种改善液体传质和交换的液体扰流装置及电镀系统。

本发明提供一种液体扰流装置,所述液体扰流装置包括支架、连接于所述支架的第一扰流元件及第二扰流元件,所述第一扰流元件具有用于导引液体的第一导流面,所述第二扰流元件具有用于导引液体的第二导流面,所述第一导流面所在的平面与所述第二导流面所在的平面相交。

进一步的,所述第一扰流元件及第二扰流元件沿第一方向排列,所述第一导流面所在的平面和第二导流面所在的平面相交且呈对称设置,对称轴垂直于所述第一方向。

进一步的,所述第一扰流元件与所述第二扰流元件对称分布且对称轴垂直于所述第一方向。

进一步的,所述液体扰流装置包括多个第一扰流元件及多个第二扰流元件,相邻的两个第一扰流元件的距离等于相邻的两个第二扰流元件的距离。

进一步的,所述液体扰流装置包括安装于所述支架的扰流过渡元件,所述扰流过渡元件包括第一过渡面及第二过渡面,所述第一过渡面平行于第一导流面,所述第二过渡面平行于第二导流面。

进一步的,所述扰流过渡元件包括弧面及桥接面,所述弧面连接所述第一过渡面及第二过渡面,所述桥接面连接第一过渡面和第二过渡面。

进一步的,所述液体扰流装置包括安装于所述支架的第三扰流元件及第四扰流元件,所述第一扰流元件、第三扰流元件、第二扰流元件及第四扰流元件沿周向设置;所述第三扰流元件包括第三导流面,所述第四扰流元件包括第四导流面,所述第三导流面所在的平面和所述第四导流面所在的平面相交。

进一步的,所述液体扰流装置包括多个扰流单元,每个所述扰流单元包括沿周向设置的所述第一扰流元件、第三扰流元件、第二扰流元件及第四扰流元件;多个所述扰流单元自外向内依次设置,位于外侧的扰流单元包围位于内侧的扰流单元。

进一步的,所述液体扰流装置包括动力元件,所述动力元件包括用于输出动力的输出端,所述支架连接所述输出端,所述支架接收所述动力元件的动力。

进一步的,所述液体扰流装置包括与所述动力元件通讯连接的控制模块,所述控制模块配置为控制所述动力元件,调整所述支架、第一扰流元件、第二扰流元件的运动行程和速度。

另一方面,本发明还提供一种电镀系统,所述电镀系统包括如前所述的液体扰流装置。

本发明中,第一导流面所在的平面与第二导流面所在的平面相交,即第一扰动面和第二扰动面呈夹角设置,使液体向不同方向进行搅动,从而改善液体的传质和交换,提高液体的均匀性。

附图说明

图1是本发明液体扰流装置的第一实施方式的正视示意图,为便于观察,第一扰流元件和第二扰流元件以图案进行填充。

图2是本发明液体扰流装置的第二实施方式的正视示意图。

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