[发明专利]一种工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器有效
申请号: | 202010630257.0 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN111525221B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 冯琳;周沛翰;薛伟;符博;丁卓富 | 申请(专利权)人: | 成都雷电微力科技股份有限公司 |
主分类号: | H01P5/16 | 分类号: | H01P5/16 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 封浪 |
地址: | 610041 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工作 波段 具备 隔离 集成 波导 功分器 | ||
1.一种工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,所述基片集成波导功分器成T型;其特征在于,所述基片集成波导功分器包括软基片(1)和隔离电阻(2),所述隔离电阻(2)为陶瓷薄膜电阻;所述软基片(1)的两表面分别设置有接地层(14、15);所述软基片(1)中心位置设计有第一金属化接地过孔(12),至少在所述第一金属化接地过孔(12)的两侧设置有两个隔离槽(11),两个所述隔离槽(11)靠隔离电阻(2)一侧,沿信号输入端口(16)的轴线方向排列;所述软基片(1)的两边设置有两列第二金属化接地过孔(13);所述隔离电阻(2)覆盖所述第一金属化接地过孔(12)和两个所述隔离槽(11)。
2.如权利要求1所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述隔离槽(11)为矩形。
3.如权利要求1所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述软基片(1)采用duroid 5880或者TLY-5作为基片材料。
4.如权利要求3所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述软基片(1)的厚度为0.127mm。
5.如权利要求1所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述陶瓷薄膜电阻厚度为0.254mm,阻值为47欧。
6.如权利要求1或5所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述隔离电阻(2)通过导电银胶粘接于所述软基片(1)上。
7.如权利要求1所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述第一金属化接地过孔(12)和/或所述第二金属化接地过孔(13)的孔径为0.3mm。
8.如权利要求1所述的工作于W波段具备高隔离度的基片集成波导功分器,其特征在于,所述软基片(1)的两表面设置的接地层(14、15)的厚度均为0.5盎司。
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