[发明专利]曝光机的曝光图形的处理方法、装置及曝光机在审

专利信息
申请号: 202010631694.4 申请日: 2020-07-03
公开(公告)号: CN111880379A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 项宗齐 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/213;G03F9/00
代理公司: 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 代理人: 贾玉姣
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 曝光 图形 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,包括以下步骤:

对待曝光图形进行分段,得到多个具有预设长度的分段图形,其中,每个所述分段图形均具有对准标记,所述预设长度为所述曝光机在料带上的一次曝光长度;

在曝光时,若在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段,则直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光;

若在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段,则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记,对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正,并对校正后的分段图形进行曝光,迭代执行该步骤,直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。

2.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,所述根据上一曝光阶段的分段图像与当前的分段图形的对准标记,对当前的分段图形进行位置校正,包括:

将当前曝光阶段的分段图形的对准标记与上一曝光阶段的分段图形的对准标记进行对准操作,实现对当前曝光阶段的分段图形的位置校正。

3.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,多个所述分段图形的对准标记所处位置相互对应。

4.根据权利要求1所述的曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,多个所述分段图形的对准标记的形状一致。

5.根据权利要求4所述的曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,所述对准标记被配置为圆孔。

6.根据权利要求1-5任一项所述的曝光机的曝光图形的处理方法,其特征在于,每个所述分段图形的对准标记为多个。

7.一种曝光机的曝光图形的处理装置,其特征在于,包括:

分段模块,用于对待曝光图形进行分段,得到多个具有预设长度的分段图形,其中,每个所述分段图形均具有对准标记,所述预设长度为所述曝光机在料带上的一次曝光长度;

曝光模块,用于在曝光时,当在当前曝光阶段之前不存在上一曝光阶段时,直接对当前曝光阶段的分段图形进行曝光,以及,当在当前曝光阶段之前存在上一曝光阶段,则根据上一曝光阶段的分段图像与当前曝光阶段的分段图形的对准标记,对当前曝光阶段的分段图形进行位置校正,并对校正后的分段图形进行曝光,并迭代执行该过程,直至完成所有分段图形的位置校正及曝光。

8.根据权利要求7所述的曝光机的曝光图形的处理装置,其特征在于,所述曝光模块,具体用于:

将当前曝光阶段的分段图形的对准标记与上一曝光阶段的分段图形的对准标记进行对准操作,实现对当前曝光阶段的分段图形的位置校正。

9.根据权利要求8所述的曝光机的曝光图形的处理装置,其特征在于,多个所述分段图形的对准标记所处位置相互对应。

10.一种曝光机,其特征在于,设置有如权利要求7-9任一项所述的曝光机的曝光图形的处理装置。

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