[发明专利]CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质

说明书

本发明公开了一种CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质，该方法包括：计算基材上的基准点到胶片上的标记点之间的距离，并获取所述距离的最小二乘解；将所述距离的最小二乘解传递到范式距离或霍夫距离中，采用范式距离或者霍夫变换获取所述基准点到所述标记点之间的真实距离；控制所述曝光机的对位平台根据所述真实距离进行移动，使得所述基准点与所述标记点重合对位。本发明用于解决现有对位方式在材料形变情况下的对位精度低的问题。

技术领域

本发明涉及曝光机对位技术领域，尤其涉及一种CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质。

背景技术

印制电路板制造工艺中，最关键的工序之一就是将底片图像转移到基材上。先在基板上涂覆一层感光材料(如液态感光胶、光敏抗蚀干膜等)，然后对涂覆在基材上的感光材料进行光辐射，使其溶解性发生变化。未感光部分的树脂没有聚合，在显影液作用下溶解，感光部分的感光材料发生聚合反应固化在基材上形成图像，这一工艺过程即是曝光，也就是印制电路板生产中由曝光机完成的工序。曝光机主要用于将电子线路图形显现在产品零件上，从而得到体积小且多层线路的电子零件产品。

曝光机的对位，是用于原料与原料之间基于机器的自动对位系统，当机器通过工业摄像头识别到原料基准点之后通过内置算法计算即可实现自动控制机器对位，使用者只需要在电脑上给机器指出基准点即可，操作简便，机器反应迅速。现有曝光机包括ccd双视觉对位系统，通常情况下设置有两个相机或者四个相机，但是无论是两个相机还是四个相机的对位系统，都无法解决材料形变的问题，如图1-3所示，双相机之于四相机，不言而喻四相机的稳定性高于双相机。相对于来说，如果对位材料是固定且很难发生形变，那么双相机对位确实可以实现，但是对于会发生一定形变的材料，双相机对位就难以胜任，两个相机就只能照顾到当前两个位置的对位，而另外的对位就可能很差，而对于四相机就不会这样，四相机固定了四个点位就会最大的可能保证对位准确，但对于发生形变的材料总会存在误差。

针对材料形变情况下的对位问题，现有主要有以下几种方法：1、重心对位，2、平均值对位，3、偏差对位。重心对位对很多材料不可用，比如说梯形材料，这样确实符合重心对位要求，但对位就有可能对位成如图4所示的情形。对于平均值对位就是取各个基准点到标记点的距离的平均，然后对位，这样的方法听起来很完美实际上无法避免带来的巨大误差；偏差对位和平均值对位类似，但是误差很大。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种CCD曝光机的对位方法、装置及其计算机可读存储介质，以解决现有对位方式在材料形变情况下的对位精度低的问题。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案如下：

根据本发明的第一个方面，提供的一种CCD曝光机的对位方法，用于具有CCD对位系统的曝光机，该方法包括：

计算基材上的基准点到胶片上的标记点之间的距离，并获取所述距离的最小二乘解；

将所述距离的最小二乘解传递到范式距离或霍夫距离中，采用范式距离或者霍夫变换获取所述基准点到所述标记点之间的真实距离；

控制所述曝光机的对位平台根据所述真实距离进行移动，使得所述基准点与所述标记点重合对位。

进一步的，所述计算基材上的基准点到胶片上的标记点之间的距离之前，所述方法还包括：

所述CCD对位系统采集所述胶片上的标记点图像信息，并对所述图像信息进行图像处理，对所述标记点进行定位。

进一步的，所述计算基材上的基准点到胶片上的标记点之间的距离，并获取所述距离的最小二乘解具体包括：

所述基材和所述胶片上对应设置有两个或者四个标记点和基准点，通过最小二乘法获取所述基准点与对应的所述标记点之间距离的最小二乘解矩阵。