[发明专利]显示装置及制造该显示装置的方法

说明书

提供了一种显示装置及制造该显示装置的方法。所述显示装置包括：基体基底，具有包括第一区域和第二区域的显示区域以及非显示区域；第一半导体层，包括多晶硅并在第二区域处；第一导电层，位于第一绝缘层上，并且包括在第一区域处的底栅电极和在第二区域处的第二‑第一栅电极；第二半导体层，包括氧化物并在第一区域处位于第二绝缘层上；第二导电层，位于第三绝缘层上，并且包括在第一区域处的顶栅电极和在第二区域处的第二‑第二栅电极；以及第三导电层，位于第四绝缘层上，并且包括连接到第二半导体层的第一源电极和第一漏电极以及连接到第一半导体层的第二源电极和第二漏电极。

本申请要求于2019年7月9日在韩国知识产权局提交的第10-2019-0082715号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本公开的一个或更多个示例性实施例涉及一种显示装置。

背景技术

显示装置的重要性随着多媒体的发展而逐渐提高。因此，正在使用各种类型的显示装置(诸如液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)显示器)。在这些显示装置之中，OLED显示器使用通过电子和空穴的复合产生光的有机发光元件来显示图像。OLED显示器包括向有机发光元件供应驱动电流的多个晶体管。

在本背景技术部分中公开的上面的信息是为了增强对本公开的背景技术的理解，因此，它可以包含不构成现有技术的信息。

发明内容

本公开的一个或更多个示例性实施例涉及一种减少了在制造工艺中使用的掩模的数量的显示装置。

本公开的一个或更多个示例性实施例涉及一种制造显示装置的方法，在所述方法中，减少了在制造工艺中使用的掩模的数量。

应该注意的是，本公开的方面和特征不限于上面描述的方面和特征，并且通过以下描述，对于本领域技术人员而言，本公开的其它方面和特征将是明显的。

根据本公开的示例性实施例，一种显示装置包括：基体基底，具有显示区域和与显示区域相邻的非显示区域，显示区域包括第一区域和第二区域；第一半导体层，在基体基底的第二区域处，第一半导体层包括多晶硅；第一绝缘层，位于第一半导体层上；第一导电层，位于第一绝缘层上，第一导电层包括在第一区域处的底栅电极和在第二区域处的第二-第一栅电极；第二绝缘层，位于第一导电层上；第二半导体层，在第一区域处位于第二绝缘层上，第二半导体层包括氧化物；第三绝缘层，位于第二半导体层上；第二导电层，位于第三绝缘层上，第二导电层包括在第一区域处的顶栅电极和在第二区域处的第二-第二栅电极；第四绝缘层，位于第二导电层上；以及第三导电层，位于第四绝缘层上，第三导电层包括第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极，第一源电极和第一漏电极中的每个连接到第二半导体层，并且第二源电极和第二漏电极中的每个连接到第一半导体层。

在示例性实施例中，底栅电极和顶栅电极可以彼此电连接。

在示例性实施例中，显示装置还可以包括：第一过孔层，位于第三导电层上；以及像素电极，位于第一过孔层上。像素电极可以直接连接到第二源电极或第二漏电极。

在示例性实施例中，非显示区域可以包括在显示区域的一侧处的弯曲区域。第一绝缘层至第四绝缘层可以被构造为在弯曲区域处暴露基体基底的上表面。弯曲区域可以包括位于基体基底上的弯曲过孔层和位于弯曲过孔层上的连接电极。第三导电层还可以包括连接电极。

在示例性实施例中，显示装置还可以包括：盖导电图案，在第二区域处在第二绝缘层与第三绝缘层之间，并且盖导电图案、第二-第一栅电极和在盖导电图案与第二-第一栅电极之间的第二绝缘层可以限定电容器。

在示例性实施例中，盖导电图案可以包括与第二半导体层的材料相同的材料。

在示例性实施例中，显示装置还可以包括：盖导电图案，在第二区域处在第二绝缘层与第三绝缘层之间，并且第二-第二栅电极和盖导电图案可以限定电容器。