[发明专利]一种凸雕陶瓷及其上色制作方法

权利要求书

1.一种凸雕陶瓷，其特征在于，包括：

陶瓷本体(1)，其外表面形成有凸雕层；

第一陶瓷釉层(2)，喷涂在所述陶瓷本体(1)及所述凸雕层的外表面；

第二陶瓷釉层(3)，喷涂在所述第一陶瓷釉层(2)外表面。

2.根据权利要求1所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述凸雕层为凸雕图案。

3.根据权利要求1所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述第一陶瓷釉层(2)的厚度小于所述第二陶瓷釉层(3)。

4.根据权利要求1至3任一项所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，还包括设置在所述第一陶瓷釉层(2)上的用于使所述第一陶瓷釉层(2)和所述第二陶瓷釉层(3)结合固定的配合结构(4)。

5.根据权利要求4所述的一种凸雕陶瓷，其特征在于，所述配合结构(4)为朝向所述第二陶瓷釉层(3)凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层(3)凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。

6.一种凸雕陶瓷的上色制作方法，所述凸雕陶瓷为权利要求1-5任一项所述的凸雕陶瓷，其特征在于，包括以下步骤：

S1、制作凸雕陶瓷：采用凸雕方式在陶瓷本体外表面进行绘制图案，得到凸雕陶瓷；

S2、将制成的凸雕陶瓷表面进行打磨、抛光；

S3、将打磨、抛光后的凸雕陶瓷表面进行清洗，之后放入烘箱内高温烘干；

S4、在干燥后的凸雕陶瓷表面喷涂第一陶瓷釉层，再将喷涂后的凸雕陶瓷放入烘箱中预烘干；

S5、在预烘干后的凸雕陶瓷的第一陶瓷釉层的外表面喷涂第二陶瓷釉层；

S6、最后将凸雕陶瓷送入高温窑炉中高温烧制，冷却即完成对凸雕陶瓷的上色。

7.根据权利要求6所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，其特征在于，所述步骤S3中高温烘干温度为180-220℃，时间为20min-40min。

8.根据权利要求6所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，其特征在于，所述S4和S5步骤中的第一陶瓷釉层和第二陶瓷釉层的陶瓷釉组分按重量份数包括：

长石20-30份、高岭土10-20份、石英5-15份、白云石4-10份、碳酸钠10-18份、釉果8-20份、氟硅酸铵4-10份、氧化铝3-9份、氢氧化钙5-15份、胡椒基丁醚3-9份、氢氧化钠2-6份、铝矾土4-12份、蛭石粉6-14份。

9.根据权利要求6所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，其特征在于，在步骤S4中，还包括在第一陶瓷釉层外表面形成配合结构。

10.根据权利要求6所述的一种凸雕陶瓷的上色制作方法，其特征在于，所述步骤S6中高温烧制温度为800-1000℃，时间为1h-2h。