[发明专利]抗菌抛光砖的生产工艺、抗菌剂的制备方法及抗菌抛光砖

权利要求书

1.一种抗菌抛光砖的生产工艺，其特征在于，包括如下具体步骤：

S1)将普通抛光砖按照常规抛光砖工艺对釉面清洁抛光即得待处理抛光砖；

S2)在所述待处理抛光砖的釉层表面，滴加各自分装并在滴落釉层表面之前瞬间混合的抗菌剂和防污剂A，然后磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求；

S3)经S2）处理后抛光砖的釉层表面滴加杀菌速率调节剂，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求，即制得所述的抗菌抛光砖；

还包括以下步骤：

S4)在所述待处理抛光砖的釉层表面滴加含有抗菌液的防污剂B，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求，即制得所述的抗菌抛光砖；

所述步骤S2中的瞬间混合的混合时间为1-60秒；

所述抗菌剂包括纳米氧化锌、纳米磷酸锆载银或纳米二氧化硅载银中的若干种，所述抗菌剂为悬浮液；所述防污剂A为纳米二氧化硅或硅溶胶；所述杀菌速率调节剂为硝酸银溶液，所述硝酸银溶液中硝酸银的含量为500-2000ppm；所述防污剂B为硅油或硅脂，所述防污剂B含有的抗菌液为DC-5700或SQ5700，所述抗菌液的浓度为1-2％；

所述抗菌剂的粒径均为8-35纳米；步骤S2中所述抗菌剂和防污剂A的滴加量为20-50ml/㎡，所述抗菌剂和防污剂A的混合体积比为1:4；步骤S3中所述杀菌速率调节剂的滴加量为0.5-5ml/㎡；步骤S4中所述防污剂B的滴加量为1-5ml/㎡；

所述磨盘的转速为55～65r/s，所述磨盘施压的压力为35～58Pa，各个步骤中的所述光泽度的要求为85-100°。

2.一种用于权利要求1所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

P1)称取配制所述抗菌剂的原料，包括：抗菌粉、分散剂、消泡剂和水；

P2)将配制好的原料混合均匀，采用超声波分散机打散混合物中的团聚物，或者投入砂磨机研磨，制得抗菌粉悬浮液；

P3)将抗菌粉悬浮液，稳定均匀、无分层、无沉淀或者凝胶现象，即制得所述抗菌剂。

3.根据权利要求2所述的用于所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，其特征在于，所述抗菌粉为纳米氧化锌、纳米磷酸锆载银或纳米二氧化硅载银中的若干种，所述抗菌粉的纯度高于99％，所述抗菌粉的粒径为10-50纳米。

4.根据权利要求2所述的用于所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，其特征在于，按照质量百分比计算，所述抗菌剂的原料包括：抗菌粉1-30％、分散剂0.1-5％和水60-98.9％。

5.一种抗菌抛光砖，其特征在于，所述抗菌抛光砖根据权利要求1所述的抗菌抛光砖的生产工艺制得。