[发明专利]抗菌抛光砖的生产工艺、抗菌剂的制备方法及抗菌抛光砖

说明书

本发明公开了一种抗菌抛光砖的生产工艺，包括如下具体步骤：S1)将普通抛光砖釉面清洁抛光制得待处理抛光砖；S2)在所述待处理抛光砖的釉层表面，滴加瞬间混合的抗菌剂和防污剂A，然后磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求；S3)在所述待处理抛光砖的釉层表面滴加杀菌速率调节剂，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求；S4)在所述待处理抛光砖的釉层表面滴加含有抗菌液的防污剂B，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求，即制得所述的抗菌抛光砖。本发明还提出了用于所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，以及一种根据所述的抗菌抛光砖的生产工艺制得的抗菌抛光砖，具有良好的的抗菌效果，且抗菌性能稳定持久。

技术领域

本发明涉及陶瓷技术领域，尤其涉及一种抗菌抛光砖的生产工艺、抗菌剂的制备方法及抗菌抛光砖。

背景技术

现有技术的抗菌抛光砖通过在釉层中加入抗菌材料后经烧成而成，烧成后需要对表面釉层进行抛光处理，含有抗菌材料的釉层抛光后遗留在砖面的较少且不均匀，故此需要提高釉层的抗菌材料的浓度，由于抛光过程中的釉面去除较多导致制得的抗菌抛光砖的抗菌效果不稳定，检测多为不达标，被去除的含有抗菌材料的釉层成为巨大的资源浪费，增加了企业的生产成本。

发明内容

本发明提出一种抗菌抛光砖的生产工艺、抗菌剂的制备方法及抗菌抛光砖，采用普通抛光砖即可制得具有抗菌抛光砖，制得的抗菌抛光砖，具有良好的的抗菌效果，且抗菌性能稳定持久。本发明提出的用于所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，工艺简单，易实施，成本低。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种抗菌抛光砖的生产工艺，包括如下具体步骤：

S1)将普通抛光砖按照常规抛光砖工艺对釉面清洁抛光即得待处理抛光砖；

S2)在所述待处理抛光砖的釉层表面，滴加各自分装并在滴落釉层表面之前瞬间混合的抗菌剂和防污剂A，然后磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求；

S3)在所述待处理抛光砖的釉层表面滴加杀菌速率调节剂，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求，即制得所述的抗菌抛光砖。

优选的，还包括以下步骤：

S4)在所述待处理抛光砖的釉层表面滴加含有抗菌液的防污剂B，经磨盘施压打磨至光泽度达到设定的要求，即制得所述的抗菌抛光砖。

本发明所述的普通抛光砖包括釉面抛光砖、通体抛光砖和微晶抛光砖，所述的抗菌抛光砖的生产工艺均可采用为基材。

优选的，所述步骤S2中的瞬间混合的混合时间为1-60秒。

优选的，所述抗菌剂包括纳米氧化锌、纳米磷酸锆载银或纳米二氧化硅载银中的若干种，所述抗菌剂为悬浮液；所述防污剂A为纳米二氧化硅或硅溶胶；所述杀菌速率调节剂为硝酸银溶液，所述硝酸银溶液中硝酸银的含量为500-2000ppm；所述防污剂B为硅油或硅脂，所述防污剂B含有的抗菌液为DC-5700或SQ5700，所述抗菌液的浓度为1-2％。

优选的，所述抗菌剂的粒径均为8-35纳米；步骤S2中所述抗菌剂和防污剂A的滴加量为20-50ml/㎡，所述抗菌剂和防污剂A的混合体积比为1:4；步骤S3中所述杀菌速率调节剂的滴加量为0.5-5ml/㎡；步骤S4中所述防污剂B的滴加量为1-5ml/㎡。

优选的，所述磨盘的转速为55～65r/s，所述磨盘施压的压力为35～58Pa，各个步骤中的所述光泽度的要求为85-100°。

进一步的，本发明还提出了一种用于以上所述的抗菌抛光砖的生产工艺的抗菌剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

P1)称取配制所述抗菌剂的原料，包括：抗菌粉、分散剂、消泡剂和水；