[发明专利]一种耐磨防污抛釉砖釉料及其制备方法

说明书

本发明公开了一种耐磨防污抛釉砖釉料及其制备方法，所述耐磨防污抛釉砖釉料包括生釉料粉、1号熔块粉和2号熔块粉；生釉料粉包括以下重量百分比的原料：高岭土8～12%、煅烧高岭土10～18%、石英12～20%、白云石12～20%、烧滑石8～15%、硅灰石1～5%、霞石8～15%、氧化锌5～10%、方解石0～5%和碳酸锶6～12%；所述1号熔块粉的原料包括高岭土、烧滑石和萤石，所述2号熔块粉的原料包括氧化锌、碳酸锶和硼砂。所述耐磨防污抛釉砖釉料含有大量堇青石微晶体，堇青石微晶体有透明、高硬度等特性，能够增强釉层的耐磨性和防滑效果，并能够解决了釉层透明度和耐磨性能的矛盾。

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种耐磨防污抛釉砖釉料及其制备方法。

背景技术

耐磨性能低的釉料制备出来的抛釉砖很容易磨花，耐磨度不佳的产品使用时间长了，光泽度下降非常明显，表面暗淡无光，严重影响美观。目前，通过提高釉面硬度来改善其耐磨性已成为业界的共识，现有技术主要是通过增加釉层玻璃结构的交联程度，实现釉面硬度和机械耐磨性的提高。

例如，通过在釉料中引入超细刚玉微粉，以提高釉料中氧化铝的含量，使釉料的硬度提高，在一定程度上改善了釉面的耐磨性。然而，在实际应用中发现，氧化铝虽然能够增加釉面硬度，但同时也会减少釉面的透明度，而且刚玉晶体在釉料中引入的量过多会增大总孔隙率，导致釉料的防污性能下降。

此外，还有通过提高釉料中氧化镁的含量，使得氧化镁因助熔作用而产生晶相，增强釉料的耐磨性。但氧化镁组分将减小玻璃相的折光率，使釉料的透明度下降。

发明内容

本发明的目的在于提出一种耐磨防污抛釉砖釉料及其制备方法，以解决上述问题。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

本发明提供了一种耐磨防污抛釉砖釉料，包括生釉料粉、1号熔块粉和2号熔块粉；

生釉料粉包括以下重量百分比的原料：高岭土8～12%、煅烧高岭土10～18%、石英12～20%、白云石12～20%、烧滑石8～15%、硅灰石1～5%、霞石8～15%、氧化锌5～10%、方解石0～5%和碳酸锶6～12%；

所述1号熔块粉的原料包括高岭土、烧滑石和萤石，所述2号熔块粉的原料包括氧化锌、碳酸锶和硼砂。

所述耐磨防污抛釉砖釉料中，所述1号熔块粉按照1号熔块粉总原料的重量百分比计算，其中所述高岭土的添加量为60～68%，所述烧滑石的添加量为20～26%，所述萤石的添加量为2～6%；

所述2号熔块粉按照2号熔块粉总原料的重量百分比计算，其中所述氧化锌的添加量为3～8%，所述碳酸锶的添加量为6～12%，所述硼砂的添加量为1～3%。

所述耐磨防污抛釉砖釉料中，所述2号熔块粉的太阳光直接透射比为22.5～24%，莫氏硬度为4级，烧成温度范围为1150℃～1260℃。

所述耐磨防污抛釉砖釉料中，所述1号熔块粉包括以下重量百分比的原料：高岭土60～68%、烧滑石20～26%、石英1～5%、萤石2～6%和硼砂1～3%；

所述2号熔块粉包括以下重量百分比的原料：高岭土32～38%、煅烧氧化铝2～8%、石英15～20%、烧滑石10～15%、硅灰石2～8%、氧化锌3～8%、方解石2～8%、碳酸锶6～12%和硼砂1～3%。

所述耐磨防污抛釉砖釉料中，所述生釉料粉、1号熔块粉和2号熔块粉的重量比为（5～6）：（1～2）:（2～4）。

本发明还提供了一种上述耐磨防污抛釉砖釉料的制备方法，包括以下步骤：

制备1号熔块粉：按照配比将1号熔块粉的原料混合并制成粉末；上述原料经高温烧制后，出料水冷制成1号熔块粉，并将制备的1号熔块粉打粉过筛、干燥，取100目筛下物备用；