[发明专利]尘埃堆积探测装置在审
申请号: | 202010650836.1 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN112213241A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 千林晓;福永哲也;中村匠汰 | 申请(专利权)人: | 日新电机株式会社 |
主分类号: | G01N15/04 | 分类号: | G01N15/04;G01N21/01;G01N21/59;G01N21/55;G01N21/47 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尘埃 堆积 探测 装置 | ||
1.一种尘埃堆积探测装置,其特征在于,包括:
反射构件,具有两个反射面,剖面为L字型;
发光部件,朝所述反射构件照射光;
光探测部件,探测由所述反射构件所反射的光;以及
评估部件,在从所述发光部件朝所述反射构件照射了光的状态下,对应于由所述光探测部件所探测的光的强度与所述发光部件的照射光的强度的比率,对所述反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估;
所述发光部件配置在比所述两个反射面中的铅垂面的上端高的位置,
所述发光部件及所述光探测部件配置为从所述发光部件照射的光由所述两个反射面依次反射后,通过所述光探测部件进行探测。
2.根据权利要求1所述的尘埃堆积探测装置,其特征在于,
从所述发光部件照射的光由所述两个反射面依次反射后,至通过所述光探测部件进行探测为止所穿过的光路长度为30mm以下。
3.根据权利要求1或2所述的尘埃堆积探测装置,其特征在于,
从所述发光部件朝所述反射构件照射的光与所述两个反射面中的水平面形成的角度为30度以上、45度以下的范围。
4.一种尘埃堆积探测装置,其特征在于,包括:
发光部件,朝机器的规定部分的面照射光;
光探测部件,探测透过了所述规定部分的光或由所述规定部分所反射的光;
评估部件,在从所述发光部件朝所述规定部分照射了光的状态下,对应于由所述光探测部件所探测的光的强度与所述发光部件的照射光的强度的比率,对所述规定部分中的尘埃堆积的程度进行评估;以及
调整部件,调整所述发光部件照射的光量及所述光探测部件的输出值的至少一者;
所述调整部件在尘埃已堆积在所述规定部分的状态下通过所述光探测部件探测光的强度之前,以在尘埃未堆积在所述规定部分的状态下所述光探测部件的输出值变成规定值的方式进行调整。
5.一种尘埃堆积探测装置,其特征在于,包括:
发光部件,朝机器的规定部分的面照射光;
光探测部件,探测透过了所述规定部分的光或由所述规定部分所反射的光;
温度探测部件,探测所述发光部件及所述光探测部件的周围的温度;
校正部件,对由所述光探测部件所探测的光的强度进行校正;以及
评估部件,对所述规定部分中的尘埃堆积的程度进行评估;
由所述温度探测部件所探测的温度为T,所述校正部件在从所述发光部件朝所述规定部分照射了光的状态下,使用表示由所述光探测部件所探测的光的强度的V(T)、规定温度T1、及常数K,通过V(T1)=V(T)×(1-(T-T1)/K)来算出换算值V(T1),
所述评估部件对应于所述换算值与所述发光部件的照射光的强度的比率,对所述规定部分中的尘埃堆积的程度进行评估。
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