[发明专利]尘埃堆积探测装置在审
申请号: | 202010650836.1 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN112213241A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 千林晓;福永哲也;中村匠汰 | 申请(专利权)人: | 日新电机株式会社 |
主分类号: | G01N15/04 | 分类号: | G01N15/04;G01N21/01;G01N21/59;G01N21/55;G01N21/47 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尘埃 堆积 探测 装置 | ||
本发明提供一种尘埃堆积探测装置,其不论尘埃的种类如何,均可探测尘埃的堆积。所述尘埃堆积探测装置包括:反射构件(120),具有两个反射面,剖面为L字型;发光部(102),朝反射构件照射光;光探测部(106),探测由反射构件所反射的光;以及评估部(控制部(108)),在从发光部朝反射构件照射了光的状态下,对应于由光探测部所探测的光的强度与发光部的照射光的强度的比率,对反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估;发光部配置在比两个反射面中的铅垂面的上端高的位置,发光部及光探测部配置为从发光部照射的光由两个反射面依次反射后,通过光探测部进行探测。由此,不论尘埃的种类如何,均可高精度地探测尘埃。
技术领域
本发明涉及一种用于掌握附着或堆积在电器、电气设备等的尘埃的程度的尘埃堆积探测装置。
背景技术
在电器或电气设备中,若尘埃从外部飞来并堆积,则电器或电气设备的运行不良、绝缘劣化的风险变高。为了确保这些机器、设备的正常运行,必须实施定期地进行清扫等措施。
对尘埃的附着程度进行评估的技术已为人所知。例如,在下述专利文献1中,准备两组在两个电极上形成有若湿度变高则电流容易流动的感湿膜,一者设置在盐分附着的环境中,另一者设置在盐分难以附着的环境中。对流入各组的电极间的电流值进行测定并加以比较,由此判定污损(盐分附着)的程度。
另外,在下述专利文献2中,在空调管道内设置具有透光性的板(粉尘堆积板),包夹所述板来配置光源及光传感器,基于粉尘堆积板的透过光的减少量来探测粉尘的堆积。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利第5488755号公报
[专利文献2]日本专利特开平10-170438号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
但是,在专利文献1中,存在只能探测盐分、或含有盐分的尘埃的问题。不足以探测由一般的尘埃的附着所引起的接触不良、或机器的运行不良的风险。
在专利文献2中,未考虑光源及光探测器的温度依存性。也存在如下的问题:若经常有通风且不是暗处,则无法进行有效的探测,必须将光源与光探测器相向配置,零件数的减少并不容易。另外,根据所使用的光源及光探测器,特性会有偏差,检测结果受其影响。但是,在专利文献2中,未考虑光源及光探测器的特性的偏差。
因此,本发明的第一目的在于提供一种不论尘埃的种类如何,均可探测尘埃的堆积的尘埃堆积探测装置。另外,本发明的第二目的在于提供一种可抑制光源及光探测器的特性的偏差及温度依存性的影响,并高精度地评估尘埃堆积的程度的尘埃堆积探测装置。
[解决问题的技术手段]
本发明的第一实施例的尘埃堆积探测装置包括:反射构件,具有两个反射面,剖面为L字型;发光部,朝反射构件照射光;光探测部,探测由反射构件所反射的光;以及评估部,在从发光部朝反射构件照射了光的状态下,对应于由光探测部所探测的光的强度与发光部的照射光的强度的比率,对反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估;发光部配置在比两个反射面中的铅垂面的上端高的位置,发光部及光探测部配置为从发光部照射的光由两个反射面依次反射后,通过光探测部进行探测。
由此,不论尘埃的种类如何,均可高精度地评估堆积在电器等的尘埃的程度。另外,可使尘埃堆积探测装置变得小型,无需使发光部与光探测部相向,设计的自由度增加。
优选从发光部照射的光由两个反射面依次反射后,至通过光探测部进行探测为止所穿过的光路长度为30mm以下。
由此,可确保从发光部至光探测部为止的到达光量,可更高精度地评估尘埃堆积的程度。
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