[发明专利]用于处理基板的装置

权利要求书

1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

基板支承构件，其将基板安置在所述基板支承构件上；

处理碗，其围绕所述基板支承构件；

基部板，其设置成面向安置在所述基板支承构件上的所述基板的底表面；和

边缘喷嘴构件，其安装在所述基部板上、以将处理液体喷洒至安置在所述基板支承构件上的所述基板的底边缘部分，

其中，所述边缘喷嘴构件包括：

主体，其安装在所述基部板上；

喷嘴臂，其将边缘喷嘴安装在所述喷嘴臂上、以在所述主体上可滑动地移动；和

固定构件，其将所述喷嘴臂保持在所述主体上的设定位置处。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述固定构件包括永磁体。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述主体包括：

滑动表面和引导孔，使得所述喷嘴臂可滑动地移动。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述喷嘴臂包括磁性物质，且所述喷嘴臂包括：插入到所述引导孔中的引导销；和用于确定所述设定位置的标记部。

5.根据权利要求3所述的装置，其中，当取出所述处理碗时，所述喷嘴臂在以预定角度旋转的情况下向上移动之后，可滑动地插入至所述主体的滑动表面中，并且

其中，当执行工艺时，在通过滑动暴露所述喷嘴臂之后，所述喷嘴臂移动至适合于所述工艺的所述设定位置。

6.根据权利要求5所述的装置，其中，所述处理碗包括：

外杯，其可拆卸地安装成围绕所述基板支承构件；和

内杯，其可拆卸地安装成围绕放置在所述基板支承构件上的基板的下部区域，

其中，所述内杯包括喷嘴槽，以定位所述喷嘴臂的所述边缘喷嘴，并且

其中，所述设定位置是所述边缘喷嘴插入至所述喷嘴槽中的位置。

7.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：

处理碗，其围绕基板支承构件；

基部板，其设置成面向安置在所述基板支承构件上的所述基板的底表面；和

边缘喷嘴构件，其安装在所述基部板上、以将处理液体喷洒到安置在所述基板支承构件上的所述基板的底边缘部分，

其中，所述边缘喷嘴构件包括：

主体，所述边缘喷嘴滑动至所述主体，以便在不干扰所述边缘喷嘴的情况下拆卸所述处理碗。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述边缘喷嘴构件还包括：

喷嘴臂，其将边缘喷嘴安装在所述喷嘴臂上、以在所述主体上可滑动地移动；并且

其中，所述主体包括滑动表面和引导孔，使得所述喷嘴臂可滑动地移动，

其中，当拆卸所述处理碗时，所述喷嘴臂缩回到比所述处理碗的内周表面更靠内部的位置。

9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述喷嘴臂包括磁性物质，

其中，所述边缘喷嘴构件还包括用于保持所述喷嘴臂在所述主体上的所述设定位置的永磁体。

10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述喷嘴臂还包括：插入到所述引导孔中的引导销；和用于确定所述设定位置的标记部。