[发明专利]一种镀膜用冷却设备、镀膜设备、方法及卷对卷薄膜

说明书

本申请实施例公开了一种镀膜用冷却设备、镀膜设备、方法及卷对卷薄膜，其中镀膜用冷却设备包括具有冷却气体入口且设于工艺鼓内的至少一个气体循环管路；至少一部分所述气体循环管路嵌入所述工艺鼓内壁且延伸出出口朝向所述工艺鼓外壁上设置的耐磨透气层的至少两个支路，以便对所述耐磨透气层外的柔性基材进行冷却。本申请通过设置采用气体冷却的镀膜用冷却设备，利用气体的快速冷却特点，保证了二次镀膜过程中热量的快速释放，使得两次镀膜过程可以采用相同的速度，进而避免了因速度不同导致膜外观出现MD纹路，两面膜外观不一致的问题。

技术领域

本申请涉及光学镀膜领域，特别是涉及一种镀膜用冷却设备、镀膜设备、方法及卷对卷薄膜。

背景技术

卷对卷磁控溅射镀膜是目前常见的镀膜方法，其用于镀膜的设备包括一个真空腔、设于真空腔内的工艺鼓、设于工艺鼓外周的磁控靶、水冷设备以及薄膜传动装置。在镀膜时，薄膜传动装置将薄膜传送至工艺鼓外壁，磁控靶对其进行磁控溅射镀膜并在镀膜完成后，由薄膜传动装置将薄膜带离工艺鼓处。

由于磁控溅射的过程会使得薄膜产生高温，为此，需通过水冷设备对薄膜进行冷却，以降低应力，保证膜的质量。

很多场景下，需要对膜进行双面镀膜。一般是先对一面镀膜，之后再翻转后对另一面镀膜。但由于第一次镀膜过程对膜产生了应力，因此第二次镀膜过程中，应力无法释放，镀膜过程中的热量无法及时释放。因此通常要降低第二次镀膜的速度。前后两次速度的不一致会导致很多问题，如两次镀膜的外观不一致。如何解决这一问题，是目前的难题。

发明内容

本申请提供了一种镀膜用冷却设备、镀膜设备、方法及卷对卷薄膜，以解决现有技术中出现的上述问题。

本申请提供了如下方案：

一方面提供了一种镀膜用冷却设备，所述设备包括具有冷却气体入口且设于工艺鼓内的至少一个气体循环管路；至少一部分所述气体循环管路嵌入所述工艺鼓内壁且延伸出出口朝向所述工艺鼓外壁上设置的耐磨透气层的至少两个支路，以便对所述耐磨透气层外的柔性基材进行冷却。

优选的，每一所述气体循环管路包括沿所述工艺鼓转轴延伸的进气管路、进气管路末端朝向所述工艺鼓的内壁弯折并在所述内壁延伸预定距离的气体冷却管路，气体冷却管路末端朝向所述工艺鼓转轴弯折直至与所述冷却气体入口联通。

优选的，每一所述气体循环管路呈长方形。

优选的，所有所述气体循环管路沿所述工艺鼓转轴的中心线对称设置。

优选的，所述耐磨透气层上设有透气用通孔。

优选的，所述耐磨透气层由铸钢、碳钢组合制成。

优选的，所述设备还包括设于工艺鼓内部的至少一个液体循环管路；每一所述液体循环管路包括进水管路、水冷却管路和排水管路；所有所述液体循环管路共用一个沿所述工艺鼓转轴延伸设置的进水管路，所述进水管路末端向所述工艺鼓内壁至少两个方向分别弯折并分别在所述工艺鼓内壁延伸预定距离形成水冷却管路、水冷却管路末端向所述工艺鼓转轴弯折并沿所述工艺鼓转轴形成排水管路。

本申请另一方面还公开一种镀膜设备，包括真空腔体、设于真空腔体内的工艺鼓、传动装置、磁控靶以及所述的冷却设备；

所述工艺鼓、冷却设备、薄膜传动机构和磁控靶均设于所述真空腔体内，所述传动装置用于将柔性基材传动至所述工艺鼓外壁的耐磨透气层；所述磁控靶分布于所述工艺鼓的外周；所述冷却设备设于所述工艺鼓内。

本申请再一方面公开一种镀膜方法，所述方法利用所述的镀膜设备进行镀膜，包括两次镀膜过程：

所述传动装置以第一速度将所述柔性基材送至所述工艺鼓；

所述磁控靶以第二速度对所述柔性基材一面进行镀膜且所述冷却设备对所述柔性基材进行冷却；