[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一种真空处理装置，所述真空处理装置的特征在于，

前述真空处理装置具有：

处理区域，其设置于前述真空槽内，具有在基板的平面的处理面上进行处理的处理源；以及

输送路径，其设置于前述真空槽内，以通过前述处理区域的方式输送前述基板，

前述输送路径以相对于下述平面投影时为一连串的环状的方式形成，所述平面包括关于在该输送路径中输送的前述基板的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过前述处理区域时前述基板的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

前述真空处理装置具备基板保持器输送机构，所述基板保持器输送机构构成为，将排列地保持多个基板的基板保持器沿着前述输送路径输送。

3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述真空处理装置具备基板保持器输送机构，所述基板保持器输送机构构成为，将基板保持器沿着前述输送路径输送，所述基板保持器在相对于前述基板的输送方向正交的输送正交方向上排列地保持多个基板。

4.如权利要求3所述的真空处理装置，其特征在于，

在前述基板保持器输送机构中设置有基板保持器导入部和基板保持器排出部，所述基板保持器导入部用于将保持有处理前的基板的基板保持器交付至该基板保持器输送机构，所述基板保持器排出部用于将保持有处理后的基板的基板保持器从该基板保持器输送机构取出。

5.如权利要2至4中任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器构成为，在前述输送正交方向的两端部具有沿该输送正交方向延伸的支承轴，并且在前述基板保持器输送机构中，该基板保持器的支承轴以能够以沿前述输送正交方向延伸的旋转轴线为中心旋转的方式拆装自如地保持于保持驱动部，所述保持驱动部设置于构成前述输送路径的驱动部件。

6.如权利要求5所述的真空处理装置，其特征在于，

前述保持驱动部设置于前述驱动部件的外侧，并且设置有用于阻止该保持驱动部从前述驱动部件脱落的引导部件，该引导部件被构成使得前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器导入部处被保持于前述保持驱动部，并且前述基板保持器在前述基板保持器输送机构的基板保持器排出部处从前述保持驱动部脱离。

7.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构在前述输送路径的去路以及回路中分别具有前述处理区域。

8.如权利要求7所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在维持前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系的状态下输送该基板保持器。

9.如权利要求7所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有输送折返部，所述输送折返部将前述基板保持器从前述输送路径的去路向回路折返地输送，该输送折返部构成为在使前述基板保持器相对于该输送方向的前后关系反转的状态下输送该基板保持器。

10.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构具有加热机构，所述加热机构在处理前对保持有前述基板的前述基板保持器进行加热。

11.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述基板保持器输送机构一体地组装于框架构造体，所述框架构造体相对于前述真空槽拆装自如。