[发明专利]多射束描绘方法以及多射束描绘装置

权利要求书

1.一种多射束描绘方法，其特征在于，

进行基于射束偏转的第k次的跟踪控制，以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，其中，k为自然数，

在进行所述第k次的跟踪控制的同时，在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次射束发射，

在所述第k次的跟踪控制期间经过后，使跟踪位置返回到对所述第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。

2.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

在所述跟踪控制用的射束偏转中使用偏转器，

在所述跟踪控制期间中，使用与在所述跟踪控制用的射束偏转中使用的所述偏转器不同的偏转器，使所述多射束一并偏转到对各射束的描绘位置进行了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置。

3.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

从预先设定的所述偏移的多个距离中，选择在所述第k+1次的跟踪控制的开始位置使用的偏移距离。

4.根据权利要求1所述的多射束描绘方法，其特征在于，

从所述多射束中检测缺陷射束，

通过所述跟踪控制用的射束偏转，使跟踪位置返回到对检测出所述缺陷射束后的第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为检测出所述缺陷射束后的第k+1次的跟踪控制的开始位置。

5.根据权利要求2所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述跟踪控制期间中的所述偏移，在与进行所述跟踪控制的方向正交的方向上进行。

6.根据权利要求2所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述跟踪控制期间中的所述偏移，在与进行所述跟踪控制的方向平行的方向上进行。

7.根据权利要求2所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述跟踪控制期间中的所述偏移，分别在与进行所述跟踪控制的方向正交的方向及与进行所述跟踪控制的方向平行的方向上进行。

8.一种多射束描绘方法，其特征在于，

进行基于使用偏转器的射束偏转的跟踪控制，以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，

在进行所述跟踪控制的同时，在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次射束发射，

在所述跟踪控制期间中，使用与在所述跟踪控制用的射束偏转中使用的所述偏转器不同的偏转器，将所述多射束一并偏转到对各射束的描绘位置进行了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置。

9.根据权利要求8所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述跟踪控制期间中的所述偏移，在与进行所述跟踪控制的方向正交的方向上进行。

10.根据权利要求8所述的多射束描绘方法，其特征在于，

所述跟踪控制期间中的所述偏移，在与进行所述跟踪控制的方向平行的方向上进行。

11.一种多射束描绘装置，其特征在于，具备：

工作台，载置试样，能够连续移动；

多射束放出源，放出多射束；

照射时间控制电路，控制所述多射束的各射束的照射时间；

第1偏转器，使所述多射束偏转，以进行第k次的追踪控制，使所述多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，其中，k为自然数；

第2偏转器，使所述多射束偏转，以在每1次所述跟踪控制的跟踪控制期间中，在各射束分别对应的所述试样上的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次射束发射；以及

偏转控制电路，在所述第k次的跟踪控制期间经过后，控制所述第1偏转器，以使跟踪位置返回到对所述第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了所述射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为第k+1次的跟踪控制的开始位置。