[发明专利]基板处理装置、控制方法以及计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种基板处理装置，具备：

喷出部，其具有向基板喷出处理液的喷嘴；

送液部，其向所述喷出部输送所述处理液；

补充部，其向所述送液部补充用于向所述喷出部输送的所述处理液；

连接部，其具有将所述补充部与所述送液部之间进行开闭的切换阀；

过滤器，其将从所述补充部向所述送液部补充的所述处理液中包含的异物去除；

补充准备部，其在使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小后打开所述切换阀；以及

补充控制部，其在所述切换阀通过所述补充准备部而被打开的状态下使所述补充部开始向所述送液部补充所述处理液。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述过滤器设置在所述送液部内。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述补充准备部在所述切换阀关闭的状态下变更所述送液部内的压力，以使所述补充部内与所述送液部内的压力差缩小。

4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述送液部还具有：送液管，其经由所述过滤器将所述补充部与所述喷出部连接；喷出用加压输送部，其经过所述送液管从所述补充部接受所述处理液，经过所述送液管向所述喷出部送出所述处理液；以及连接阀，其将所述送液管与所述喷出用加压输送部之间进行开闭，

所述补充部具有液源以及从所述液源向所述送液部送出所述处理液的补充用加压输送部，

所述补充控制部控制所述补充用加压输送部和所述喷出用加压输送部中的任一方，以使从所述补充用加压输送部向所述喷出用加压输送部的补充压力追随目标值，

所述补充控制部控制所述补充用加压输送部和所述喷出用加压输送部中的另一方，以使从所述补充用加压输送部向所述喷出用加压输送部的补充流量追随目标值。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备喷出控制部，所述喷出控制部控制所述喷出用加压输送部，以使输送至所述喷嘴的所述处理液的喷出压力追随目标值，

所述补充控制部在使所述补充压力追随目标值的控制中，使所述补充压力的目标值逐渐接近所述喷出压力的目标值，直到所述处理液的补充完成为止。

6.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述送液部还具有：送液管，其经由所述过滤器将所述补充部与所述喷出部连接；喷出用加压输送部，其经过所述送液管从所述补充部接受所述处理液，经过所述送液管向所述喷出部送出所述处理液；以及连接阀，其将所述送液管与所述喷出用加压输送部之间进行开闭，

所述切换阀以比所述连接阀小的开度变化率进行开闭。

7.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备喷出阀，所述喷出阀将所述送液部与所述喷出部之间进行开闭，

所述送液部还具有：送液管，其经由所述过滤器将所述补充部与所述喷出部连接；喷出用加压输送部，其经过所述送液管从所述补充部接受所述处理液，经过所述送液管向所述喷出部送出所述处理液；连接阀，其将所述送液管与所述喷出用加压输送部之间进行开闭；以及压力测定部，其测定所述过滤器与所述喷出用加压输送部之间的压力，

所述补充部具有液源以及从所述液源向所述送液部送出所述处理液的补充用加压输送部，

所述补充准备部依次执行：

在所述切换阀和所述喷出阀关闭且所述连接阀打开的状态下，基于所述压力测定部的测定值来控制所述喷出用加压输送部，以使所述送液部内的压力接近设定值；以及

在所述切换阀打开且所述喷出阀和所述连接阀关闭的状态下，基于所述压力测定部的测定值来控制所述补充用加压输送部，以使所述补充用加压输送部与所述喷出用加压输送部之间的压力接近所述设定值。